Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Modification of semiconducting copper oxide thin films using ion implantation
EN
The article describes method of Cr+ ion implantation with energy of 10 keV and 15 keV. This method can be used to modify thin film semiconductors. Simulations of implantation process were performed using the Stopping and Range of Ions in Matter software, taking into account different energies of the ion beam. The apparatus diagrams of ion implantation and magnetron sputtering processes are presented. Optical and structural properties of non-implanted and implanted Cu4O3 and CuO films were studied.
PL
W artykule opisana została metoda implantacji jonami Cr+ o energii 10 keV i 15 keV, która może być stosowana do modyfikacji cienkich warstw półprzewodnikowych. Wykonano symulacje procesu implantacji z wykorzystaniem programu Stopping and Range of Ions in Matter uwzględniając różne energie wiązki jonów. Przedstawiono schematy aparatury implantatora oraz układu do rozpylania magnetronowego cienkich warstw. Optyczne i strukturalne właściwości nieimplantowanych i zaimplantowanych warstw Cu4O3 i CuO zostały zbadane.
2
Content available remote Deposition of Thin (Ti,Si)N reflecive layers on textiles substrates
EN
This paper describes the structure of the device and the method of applying thin (Ti,Si)N layers used as infrared radiation reflectors on fabrics. Ion magnetron sputtering at an average frequency MF (80 kHz) was used as the deposition method. Fabrics covered with thin layers are used for the production of clothes and elements of personal protective equipment dedicated to employees (emergency services, armed forces, metallurgy, mining and others) performing tasks in a hot microclimate environment.
PL
W artykule opisano budowę urządzenia oraz sposób nakładania na tkaniny cienkich warstw (Ti,Si)N stosowanych jako reflektory promieniowania podczerwonego. Jako metodę osadzania zastosowano magnetronowe rozpylanie jonowe o średniej częstotliwości MF (80 kHz). Tkaniny pokryte cienkimi warstwami wykorzystywane są do produkcji odzieży oraz elementów środków ochrony indywidualnej dedykowanych pracownikom (służby ratunkowe, siły zbrojne, hutnictwo, górnictwo i inne) wykonującym zadania w gorącym mikroklimacie.
EN
Tungsten oxide WO3 thin films are one of the most widely used layers with electrochromic properties. Various deposition methods are used to produce them, including magnetron sputtering. In this paper the authors present the construction of a Lesker high vacuum system for GLAD Magnetron Sputtering and results of optical properties investigations of WO3 thin films which can be used for multilayer electrochromic systems.
XX
Cienkie warstwy tlenku wolframu WO3 są jednymi z najszerzej stosowanych warstw o właściwościach elektrochromowych. Do ich wytwarzania stosowane są różne metody osadzania, w tym rozpylanie magnetronowe. W niniejszej pracy autorzy przedstawiają budowę wysokopróżniowego systemu firmy Lesker do rozpylania magnetronowego GLAD oraz wyniki badań właściwości optycznych cienkich warstw WO3, które mogą być stosowane w wielowarstwowych układach elektrochromowych.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.