PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Composition of Co films/Si substrate systems prepared by means of self-ion assisted deposition and accompanying silicon damage
Tashlykov I., Mikhalkovich Y., Chernysh V.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 7
122-124
EN
The composition, radiation damage and morphology of silicon modified by means of self – ion assisted Co deposition was investigated.
PL
Zbadano skład i uszkodzenia radiacyjne krzemu zmodyfikowanego podczas naniesienia powłok Co metodą dynamicznego mieszania jonowego.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.