Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
Przedstawiono prostą metodę pomiaru aktywnej powierzchni krzemu dowolnego elementu elektronicznego. Metoda jest bezinwazyjna i może być zastosowana do dowolnego urządzenia, jeśli tylko występuje w nim złącze p-n. Opiera się ona na pomiarze odpowiedzi termicznej elementu. Układ poddany jest wymuszeniu jednostkowemu mocy, w wyniku czego następuje nagrzewanie się elementu. Wartość napięcia na złączu p-n przeliczana jest na temperaturę. Na podstawie przebiegu nieustalonego temperatury tworzona jest sieć termiczna RC.
EN
The article presents a simple method of calculating active silicon area of an electronic device. The method is non-invasive one and can be applied to any electronic device where a p-n junction exists. The method is based on a basic thermal transient measurement of p-n junction (voltage converted to temperature). Extracting values of thermal resistance and capacity of the RC ladder, the silicon area where the heat is dissipated can be calculated.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.