Otrzymywanie, właściwości oraz aktywność fotokatalityczna cienkich filmów SiO2-TiO2 domieszkowanych wanadem

Nocuń, M.; Kwaśny, S.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Otrzymywanie, właściwości oraz aktywność fotokatalityczna cienkich filmów SiO2-TiO2 domieszkowanych wanadem

Autorzy

Nocuń M. , Kwaśny S.

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma

http://mccm.ptcer.pl/

Identyfikatory

Warianty tytułu

Preparation, properties and photocatalytic activity of thin SiO2-TiO2 doped with vanadium

Języki publikacji

Abstrakty

W pracy otrzymano cienkie filmy SiO2/TiO2 domieszkowane wanadem na podłożu szklanym techniką zol-żel zanurzeniowo-wynurzeniową. Skład chemiczny próbek badano przy pomocy spektroskopii fotoelektronów (XPS). Transmitancję scharakteryzowano używając spektrofotometru UV-VIS. Wyznaczono optyczną przerwę energetyczną dla otrzymanych filmów. Zbadano również efekt fotokatalityczny dla próbek. Żele otrzymane z zoli zostały scharakteryzowane przy pomocy spektroskopii w podczerwieni (FTIR). Zaobserwowano, że dodatek wanadu powoduje obniżenie przerwy energetycznej cienkich filmów SiO2/TiO2.

In our investigation, V-doped SiO2/TiO2 thin films were prepared on glass substrates by the dip coating sol-gel technique. The chemical composition of the films was studied by photoelectron spectroscopy (XPS). Transmittances of the samples were characterized using a UV-VIS spectrophotometer. Subsequently the band-gap energy (Eg) was estimated for the films. The photocatalytic effect was investigated for the obtained samples. Gels obtained from sols were characterized by FTIR spectroscopy. It was found that the vanadium additive decreases the optical band gap of SiO2/TiO2 films.

Słowa kluczowe

zol-żel domieszkowane wanadem SiO2/TiO2 właściwości optyczne aktywność fotokatalityczna

zol-gel vanadium doped SiO2/TiO2 optical properties photocatalytic activity

Wydawca

Polskie Towarzystwo Ceramiczne

Czasopismo

Materiały Ceramiczne

Rocznik

2012

Tom

T. 64, nr 4

Strony

478--484

Opis fizyczny

Bibliogr. 27 poz., rys., tab., wykr.

Twórcy

autor

Nocuń M.

autor

Kwaśny S.

AGH Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, KTSiPA, al. Mickiewicza 30, 30-059 Kraków, nocun@agh.edu.pl

Bibliografia

[1] Turner R.H., Boerio F.J.: J. Adhesion, 78, (2002), 495.
[2] Noge S., Uno T., Shimotori H. i in.: Ferroelectrics, 338, (2006), 225.
[3] van Pota A.C., Cheng J., Sit J.C., Brett M.J.: J. Appl. Phys., 102, (2007), 13517.
[4] Dominguez C., Gracia J., Pedraz M.A., Torres A., Galan M.A., Catalysis Today, 40, (1998), 85.
[5] Herman J.M.: Catalysis Today, 53, (1999), 115.
[6] Hidaka H., Zhao J.: Colloids and Surfaces, 67, (1992), 165.
[7] Kaniou S., Pitarakis K., Barlagianni I., Poulios I.: Chemosphere, 60, (2005), 372.
[8] Aegerter M.A., Almeida R., Soutar A., Tadanaga K., Yang H., Watanabe T.: J. Sol-Gel Sci. Technol., 47, (2008), 203.
[9] Kominami H., Takada Y., Yamagiwa H., Kera Y., Inoue M.: J. Mater. Sci. Lett., 15, (1996), 197.
[10] Sopyan L., Watanabe M., Murasawa S., Hashimoto K., Fujishima A.: J. Photochem. Photobiol. A: Chem., 98, (1996), 79.
[11] Kim D.H., Anderson M.A.: J. Photochem. Photobiol. A: Chem., 94, (1996), 221.
[12] Peral J., Ollis D.F.:J. Catal., 136, (1992), 554.
[13] Gole J.L., Stout J.D., Burda C., J. Phys. Chem. B, 108, (2004), 1230.
[14] Chen X., Mao S. S., Chem. Rev., 107, (2007), 2891.
[15] Carp O., Huisman C.L., Reller A.: Progress in Solid State Chemistry, 32, (2004), 33.
[16] Zhou W., Liu Q., Zhu Z., Zhang J.: J. Phys. D: Appl. Phys., 43, (2010), 35301.
[17] Wu J.C.-S., Chen C.-H.: J. Photochem. Photobiol. A: Chemistry, 163, (2004), 509.
[18] An J.H., Kim B.H., Jeong J.H., Kim D.M., Jeon Y.S., Jeon K.O., Hwang K.S.: J. Ceram. Process. Res., 6, (2005), 163.
[19] Neatu S., Parvulescu V.I., Epure G., Petrea N., Somoghi V., Ricchiardi G., Bordiga S., Zecchina A.: Applied Catalysis B: Environmental, 9,1 (2009), 546.
[20] Wanger C.D., Riggs W.M., Davis L.E., Moulder J.F., Muilenberg G.E.: Perkin-Elmer Corp., Physical Electronics Division, Eden Prairie, Minnesota, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, USA, 1979, 190.
[21] Ge L., Xu M.: J. Sol-Gel Sci. Technol., 43, (2007), 1.
[22] Briggs D., Seach M.P.: w Practical Surface Analysis, J. Wiley & Sons, NY, (1983), 533.
[23] Dzhurinskii F., Gati D., Sergushin N.P., Nefedov V.I., Salyn Ya.V.:, Russian J. Inorg. Chem., 20, (1975), 2307.
[24] Mink G., Varsanyi G., Bertoti I., Grabis J., Vaivads J., Millers T., Szekely T.: Surface and Interface Analysis, 12, (1988), 527.
[25] Briggs D., Seah M.P.: John Willey & Sons., Vol. 1, Second Edition, 1993.
[26] Barr L.: J. Phys. Chem., Vol 10 (1990), 760.
[27] Borgmann D., Hums E., Hopfengartner G., Wedler G., Spitznagel G.W., Rademacher I.: J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., Vol 63 (1993), 91.

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-AGH1-0033-0033