PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Fotowoltaiczne właściwości cienkich warstw Zn-In-O

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Photovoltaic properties of Zn-In-O thin films
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Celem pracy było wytworzenie i zbadanie fotowoltaicznych właściwości cienkich warstw tlenku cynku z indem. Do otrzymania warstw Zn-In-O zastosowano technikę rozpylania magnetronowego. Właściwości fotowoltaiczne uzyskanych warstw określano przez pomiar wartości natężenia prądu w zależności od długości fali i wyznaczenie charakterystyk prądowo-napięciowych. Wartość fotoprądu ulegała zmianie w zależności od długości fali świetlnej. Wielkość tych zmian zależała od wartości częstotliwości zastosowanej podczas nanoszenia warstw ZnInO.
EN
The aim of the study was to manufacture and investigation of photovoltaic properties of Zn-In-O thin films obtained by magnetron sputtering method. Photovoltaic properties were tested by measurement of photocurrent intensity as a function of wavelength and determination of current-voltage characteristics. The results obtained indicate that photocurrent value varied with wavelength change. These changes depended on the impulse group frequency value applied during formation of layers.
Rocznik
Strony
271--273
Opis fizyczny
Bibliogr. 10 poz., tab., wykr.
Twórcy
autor
  • Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii
autor
  • Politechnika Wrocławska, Instytut Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii
autor
  • Politechnika Wrocławska
Bibliografia
  • [1] Jarzębski Z.M., Energia słoneczna. Konwersja fotowoltaiczna, Państwowe Wydawnictwa Naukowe, Warszawa 1990
  • [2] Klugmann-Radziemska E., Fotowoltaika w teorii i praktyce, Wydawnictwo BTC, Legionowo 2010
  • [3] Sraniak M., Podstawy fotowoltaiki, Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej, Warszawa 2008
  • [4] Mah O., Fundamentals of Photovoltaic Materials, National Solar Power Reasearch Institute, Inc. 12/21/98
  • [5] Ito N., Sato Y., Song P.K., Kaijio A., Inoue K., Shigesato Y., Electrical and optical properties of amorphous indium zinc oxide films, Thin Solid Films 496 2006), 99-103
  • [6] Ku D.Y., Kim I.H., Lee I., Lee K.S., Lee T.S., Jeong J.-h., Cheong B., Baik Y.-J., Kim W.M., Structural and electrical properties of sputtered indium-zinc oxide thin films, Thin Solid Films 515 (2006), 1364-1369
  • [7] Gonçalves G., Elangovan E., Barquinha P. , Perei ra L., Mar t ins R., Fortunato E., Influence of postannealing temperature on the properties exhibited by ITO, IZO and GZO thin films, Thin Solid Films 515 (2007), 8562-8566
  • [8] Ramamoorthy K., Kumar K., Chandramohan R., Sankaranarayanan K., Review on material properties of IZO thin films as epi-n-TCO in opto-electric (CIS solar cells, polymeric LEDs) devices, Materials Science and Engineering B 126 (2006), 1-15
  • [9] Aw K.C., Tsakadze Z., Lohani A., Mhaisalkar S., Influence of radio frequency sputtering power towards the properties of indium zinc oxide semiconducting films, Scripta Materialia 60 (2009), 48-51
  • [10] Hsieh J.H., Chuan Li, Liu S.J., Lin W.S., Sputtering process parameters to structural and electrical properties of indium zinc oxide thin films, Surface & Coatings Technology, (in press)
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-ea44764c-48d2-46bf-92b1-4d094828248b
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.