Właściwości elektrostatyczne cienkich warstw tlenków na bazie kobaltu i wolframu

• Autorzy: Gawęda Berenika , Pokora Patrycja , Obstarczyk Agata

Identyfikatory

DOI

10.15199/13.2020.10.2

Warianty tytułu

EN

Electrostatic properties of thin film oxides based on the cobalt and tungsten

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki badań i analizy wpływu składu materiałowego spiekanych targetów wytworzonych metodą SPS (ang. Spark Plasma Sintering), z których zostały naniesione powłoki, na ich właściwości antystatyczne. Cienkie warstwy zostały wytworzone za pomocą metody rozpylania magnetronowego. Pomiary oraz analizę przeprowadzono dla sześciu różnych próbek. Trzy z nich wytworzono ze spiekanych targetów Ti:Co o składzie materiałowym 95:5, 85:15 i 50:50. Z kolei pozostałe trzy uzyskane były z targetów na bazie Ti:W o takim samym składzie materiałowym jak warstwy z kobaltem. Analiza wyników badań wykazała, że spośród wielu zmierzonych próbek, tylko dwie były antystatyczne, gdyż dla kryterium 10% miały czasy rozpraszania ładunku statycznego na powierzchni krótsze niż 2 s. Były to cienkie warstwy wytworzone ze spiekanych targetów na bazie tlenków Ti-W o składzie materiałowym (Ti_0,5W_0,5)Ox oraz (Ti_0,85W_0,15)Ox.

EN

This paper provides research investigation results and analysis of influence of the material composition of sintered targets produced by the Spark Plasma Sintering (SPS) method , from which the thin layers were applied, on their antistatic properties. The thin layers were deposited by the magnetron sputtering method. Measurements and analysis were performed on six different coatings. Three of them were made of sintered Ti:Co targets with a material composition of 95: 5, 85:15 and 50:50. In turn, the remaining three were obtained from Ti:W based targets with the same material composition as the layers with the cobalt. The analysis of the research results showed that among many measured samples, only two were antistatic, because for the 10% criterion, the static charge dissipation times on the layer surface were shorter than 2 s. These were thin layers made of sintered targets based on Ti-W oxides with the material composition (Ti_0,5W_0,5) Ox and (Ti_0,85W_0,15) Ox.

Słowa kluczowe

PL

cienkie warstwy; tlenek kobaltu; tlenek wolframu; rozpylanie magnetronowe; właściwości elektrostatyczne

EN

thin films; cobalt oxide; tungsten oxide; magnetron sputtering; electrostatic properties

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2020
• Tom: Vol. 61, nr 10
• Strony: 7--9
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Gawęda Berenika

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

autor

Pokora Patrycja

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

autor

Obstarczyk Agata

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Katedra Mikroelektroniki, Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, Wrocław

Bibliografia

• [1] Andrzej Brudnik, (2002) „Optical properties of AIN thin films obtained by reactive magnetron sputterinh”, Optica Applicata, Vol. XXXII, No. 3.2002, ss. 328-331.
• [2] https://encyklopedia.pwn.pl/haslo/pierwiastki-przejsciowe;3956917.html
• [3] Michaela Dvořáková, (2019) „Preparation of cobalt oxide catalysts on stainless steel wire mesh by combination of magnetron sputtering and electrochemical deposition”, Catalysis Today 334,13-23.
• [4] N. S. Harale, (2018) „Single-step hydrothermally grown nanosheetassembled tungsten oxide thin films for sensitive and selective NO2 gas detection”, J Mater Sci, 53:6094-6105.
• [5] B.C. Yadav, (2013) „Nanostructured cobalt oxide and cobalt titanate thin films as optical humidity sensor: A new approach”, Optics & Laser Technology 49, 68-74.
• [6] Hongliang Zhang, (2013) „Tungsten oxide proton conducting films for low-voltage transparent oxide-based thinfilm transistors”, Appl. Phys. Lett.102, 052905.
• [7] Anirudha Jena, (2015) „Metal-organic chemical vapor-deposited cobalt oxidefilms as negative electrodes for thinfilm Li-ion battery”, Journal of Power Sources 277, 198e204.
• [8] Marek Hebda, (2012) „Spark Plasma Sintering- Nowa Technologia Konsolidacji Materiałów Proszkowych”, Mechanika Czasopismo Techniczne, Wyd. Politechniki Krakowskiej, 6-M/2012.
• [9] John Chubb Instrumentation Ltd, User manual: JCI 155v5 Charge Decay Test Unit, UM155v5 Issue 15: August 2009.
• [10] John Chubb Instrumentation Ltd, User manual: JCI 191 CONTROLLED HUMIDITY test CHAMBER, UM191–Issue 11: April 2008.

Uwagi

Opracowanie rekordu ze środków MNiSW, umowa Nr 461252 w ramach programu "Społeczna odpowiedzialność nauki" - moduł: Popularyzacja nauki i promocja sportu (2020).

Praca finansowana z subwencji MNiSzW na naukę na rok 2020, realizowana w Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów, w Katedrze Mikroelektroniki Politechniki Wrocławskiej (Nr 8201003902-K24W03D05).