Wpływ przygotowania powierzchni na elektronową emisję polową powłok TiO2 natryskanych plazmowo z zawiesin

• Autorzy: Znamirowski Z. , Kozerski S. , Łatka L. , Pawłowski L.

Warianty tytułu

EN

The influence of the surface preparation on field electron emission of the TiO2 coatings manufactured by suspension plasma spraying

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy badano elektronową emisję polową z powłok TiO2 na podłożach ze stali austenitycznej. Powłoki natryskiwano plazmowo z użyciem zawiesin. Zawiesiny sporządzano na bazie mieszaniny alkoholu etylowego 50% i wody 50%. Powierzchnie próbek toczono lub poddawano obróbce strumieniowo-ściernej. Stwierdzono, że emitery polowe natryskane na powierzchnie poddane wcześniej obróbce strumieniowo-ściernej charakteryzują się lepszą stabilnością emisji elektronowej.

EN

The electron field emission of TiO2 coatings on substrates made of austenitic steel has been investigated. Plasma sprayed coatings using suspensions. The suspensions were prepared based on a mixture of 50% ethyl alcohol and 50% water. The surfaces of the samples machined or subjected to abrasive blasting. It has been found that the field emitters been sprayed onto the surface before blasting, they have better stability of electron emission.

Słowa kluczowe

PL

natryskiwanie plazmowe; zawiesina; powłoka TiO2; mikrostruktura; emisja polowa; emisja elektronowa

EN

plasma spraying; suspension; TiO2 coating; microstructure; field emission; electron emission

• Wydawca: Stowarzyszenie Inżynierów i Techników Mechaników Polskich
• Czasopismo: Przegląd Spawalnictwa
• Rocznik: 2016
• Tom: R. 88, nr 3
• Strony: 27--31
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz., il., tab.

Twórcy

autor

Znamirowski Z.

• Politechnika Wrocławska

autor

Kozerski S.

• Politechnika Wrocławska

autor

Łatka L.

• Politechnika Wrocławska

autor

Pawłowski L.

• University of Limoges, France

Bibliografia

• [1] PAWŁOWSKI L., Finely grained nanometric and submicrometric coatings by thermal spraying: A review, Surface and Coatings Technology, 202 (2008) 4318-4328.
• [2] KOZERSKI S., ŁATKA L., Natryskiwanie plazmowe z zawiesin, perspektywy rozwoju oraz przykłady zastosowań, Nowoczesne zastosowania technologii spawalniczych: III Sympozjum Katedr i Zakładów Spawalnictwa, Brenna, 17-18 czerwca 2014/ pod red. Artura Czupryńskiego, Gliwice: Komisja Odlewnictwa PANm 2014, 11-20.
• [3] TOMASZEK R., NITSCH K., PAWŁOWSKI L., ZNAMIROWSKI Z., BRYLAK M., Impedance spectroscopy of suspension plasma sprayed titania coatings, Surface and Coatings Technology, 201 (2006) 1930-1934.
• [4] CZARCZYŃSKI W., ZNAMIROWSKI Z., Field electron emission experiments with plasma sprayed layers, Surface and Coatings Technology, 202 (2008) 4422-4427.
• [5] CZARCZYŃSKI W., Mikroelektronika próżniowa ,Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2000.
• [6] FOWLER R.H., NORDHEIM L.W., Electron emission in intense electric fields, Proceedings of the Royal Society A, 119 (1928) 173-181.
• [7] NORDHEIM L.W., The effect of the image force on the emission and reflection of electrons by metals, Proceedings of the Royal Society A, 121 (1928) 626-639.
• [8] IKUNO T., HONDA S., FURATA H., AOKI K., HIRAO T., OURA K., KATAYAMA M., Correlation between field electron emission and structural properties in randomly and vertically oriented carbon nanotube films, Japanese Journal of Applied Physics, 44 (4A) (2005) 1655–1660.
• [9] WATCHAROTONEA S., RUOFFA R.S., READB F.H., Possibilities for graphene for field emission: modeling studies using the BEM, Physics Procedia 1 (2008) 71-75.
• [10] FORBES R.G., Low-macroscopic-field electron emission from carbon films and other electrically nanostructured heterogeneous materials: hypotheses about emission mechanisms, Solid-State Electronics 45 (2001) 779-808.
• [11] DING M.Q., GRUEN D.M., KRAUSS A.R., AUCIELLO O., CORRIGAN T.D., CHANGR.P.H.,Studies of field emission from bias-grown diamond films, Journal of Vacuum Science and Technology B, 17 2 (1999) 705-709.
• [12] IMANISHI A., TSUJI E., NAKATO Y., Dependence of the Work Function of TiO2 (Rutile) on Crystal Faces, Studied by a Scanning Auger Microprobe,Journal of Physical Chemistry C, 111 (2007) 2128-2132.
• [13] INOMOTO H., HATTA A., KAWABATA K., KATODA T., HIRAKI A., Electron field emission from diamond-like carbon films after dielectric breakdown and from diamond films after the activation process, Diamond and Related Materials 9 (2000) 1209–1212.
• [14] LEE K.-R., EUN K.Y., LEE S., JEON D.-R., Field emission behavior of (nitrogen incorporated) diamond-like carbon films, Thin Solid Films 290-291 (1996) 171-175.
• [15] XU N.S., EJAZ HUQ S., Novel cold cathode materials and applications, Materials Science and Engineering R 48 (2005) 47-189.
• [16] STARYGA E., FABISIAK K., DŁUŻNIEWSKI M., ZNAMIROWSKI Z., Wpływ struktury warstwy diamentowej na emisję elektronów z układu warstwa diamentowa/krzem, Elektronika 8 (2011) 21-23.

Uwagi

PL

Opracowanie ze środków MNiSW w ramach umowy 812/P-DUN/2016 na działalność upowszechniającą naukę.