Formowanie transparentnych warstw przewodzących na bazie ITO

• Autorzy: Domaradzki J. , Kaczmarek D. , Mazur M. , Wojcieszak D.

Warianty tytułu

EN

Preparation of transparent conducting thin films based on ITO

• Konferencja: Sympozjum "Fotowoltaika i Transparentna Elektronika : Perspektywy Rozwoju" (4 ; 09-12.05.2013 ; Świeradów Zdrój ; Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Tlenek indowo-cynowy, powszechnie znany jako ITO, stosowany jest od wielu lat, przede wszystkim do wytwarzania przezroczystych elektrod w różnego rodzaju urządzeniach elektronicznych. W ostatnich latach największe zastosowanie materiał ten znajduje w ekranach wyświetlaczy LCD. Potencjalnie ogromne możliwości wykorzystania ITO związane są z jego unikatowymi właściwościami, które sprawiają, że tlenek ten jest przezroczysty dla światła z zakresu widzialnego promieniowania optycznego, a jednocześnie wykazuje stosunkowo małą wartość rezystywności, zazwyczaj poniżej 10^-3 Ωcm. W niniejszej pracy przedyskutowano aspekty technologiczne związane z wytwarzaniem cienkich warstw ITO metodą parowania wiązką elektronową.

EN

Indium-tin oxide, commonly known as ITO, is well known for years and applied usually as transparent electrodes for different electronics devices. In the last few years ITO was the most utilized in such applications as LCD displays. Ability of wide application of ITO results from its unique properties, that is its excellent transparency in the visible part of light irradiation and relatively low electrical resistivity, usually below 10^-3 Ωcm. In the present paper some technological aspect connected with preparation of ITO thin films by electron beam evaporation method have been discussed.

Słowa kluczowe

PL

tlenek indowo-cynowy; parowanie wiązką elektronową; transparentny tlenek przewodzący

EN

indium tin oxide; electron beam evaporation; transparent conducting oxide

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2013
• Tom: Vol. 54, nr 7
• Strony: 20--23
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Domaradzki J.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Kaczmarek D.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Mazur M.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

autor

Wojcieszak D.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Domaradzki J., „Tutorial on vacuum deposition technologies”, Proceedings of 2012 International Students and Young Scientists Workshop „Photonics and Microsystems”: international optoelectronics workshop, Szklarska Poręba, Poland, 2012.
• [2] Domaradzki J., „Powłoki optyczne na bazie Ti02”, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław, 2010.
• [3] Klemberg-Sapieha J. i in., Mechanical characteristics of optical coatings prepared by various techniques: a comparative study, Appl. Optics, vol. 43, s. 2670-2679, 2004.
• [4] Willey R. R., „Practical production of optical thin films”, vol. 2, Willey Optical, Consultants, Charleviox, 2008.