Wpływ rodzaju podłoża na wybrane właściwości cienkich warstw ITO

• Autorzy: Strzyżewski Maciej , Wojcieszak Damian , Rogala Jacek , Pastuszek Roman

Identyfikatory

DOI

10.15199/13.2019.7.6

Warianty tytułu

EN

Influence of substrate type on selected properties of ITO thin films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań wpływu rodzaju podłoża na właściwości cienkich warstw ITO, takich jak chropowatość powierzchni, zwilżalność, rezystywność oraz współczynnik odbicia światła. Analizie poddano warstwy ITO o grubości 70 nm, naniesione metodą rozpylania magnetronowego na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO₂), krzemu (Si), poliwęglanu (PC) oraz poli(tereftalanu etylenu) (PET). Badania wykazały istotny wpływ ukształtowania powierzchni podłoża na właściwości naniesionej cienkiej warstwy ITO. Uzyskana rezystywność warstw ITO wykazała różnice nawet o kilka rzędów wielkości dla zastosowanych różnych podłoży. Cienkie warstwy ITO wykazały właściwości hydrofilowe na każdym badanym podłożu, natomiast największą wartością kąta zwilżania charakteryzowała się warstwa ITO/SiO₂. Najmniejszą wartość współczynnika odbicia światła dla długości fali 550 nm wykazała warstwa tlenku indowo-cynowego na podłożu krzemowym i wynosiła ok. 3,2%.

EN

This paper presents the results of research on the influence of substrate type on the properties of ITO thin films, such as surface roughness, wettability, resistivity and light reflectance. ITO 70 nm thick coatings were deposited using magnetron sputtering to amorphous silica (SiO₂), silicon (Si), polycarbonate (PC) and polyethylene terephthalate (PET) substrates. The research showed a significant influence of the surface roughness of the substrate on the properties of the deposited ITO thin film. The obtained resistivity of ITO thin films varied even by several orders of magnitude for the various substrates used. Investigated materials showed a hydrophilic properties on each substrate, but the ITO/SiO₂ layer was characterized by the highest value of the contact angle. The lowest value of the reflectance at the wavelength of 550 nm showed the indium-tin oxide thin film deposited on the silicon substrate and was about 3.2%.

Słowa kluczowe

PL

ITO; cienkie warstwy; podłoże; zwilżalność; rezystywność; współczynnik odbicia

EN

ITO; thin films; substrate; wettability; resistivity; reflectance

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2019
• Tom: Vol. 60, nr 7
• Strony: 21--23
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Strzyżewski Maciej

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Wrocław

autor

Wojcieszak Damian

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Wrocław

autor

Rogala Jacek

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Wrocław

autor

Pastuszek Roman

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki, Wrocław

Bibliografia

• [1] Araźna A. i in., (2012) Ocena chropowatości tlenku indowo-cynowego (ITO), Elektronika, vol. 8, s. 29-30.
• [2] Cichy B. i in., (2008) Efektywne, niskotemperaturowe osadzanie tlenku indowo-cynowego (ITO) metodą impulsowego rozpylania magnetronowego, Elektronika, vol. 6, s. 101-103.
• [3] Domaradzki J. i in., (2015) Analiza właściwości wybranych warstwy typu TCO jako optycznych luster podczerwieni, Przegląd Elektrotechniczny, vol. 9, 20-23.
• [4] Dudek M., (2010) Wpływ parametrów osadzania na właściwości warstw ITO wytwarzanych w procesie reaktywnego rozpylania magnetronowego typu pulse-DC, Inżynieria materiałowa, vol. 4, s. 935-938.
• [5] Kang M. i in., (2011) Optical Properties of Sputtered Indium- tin-oxide Thin Films; Journal of the Korean Physical Society, vol. 59, s. 3280-3283.
• [6] Domaradzki J., (2010) Powłoki optyczne na bazie TiO2; Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław.
• [7] Lanzafame S. i in., (2010) Structural, electronic, and optical properties of ITO thin films prepared at room temperature by pulsed laser deposition; Radiation Effects and Defects in Solids: Incorporating Plasma Science and Plasma Technology, vol. 165, s. 592-600.
• [8] Selj J. K., i in., (2015) Optimalization of the antireflection coating of thin epitaxial crystalline silicon solar cells, Energy Procedia, vol. 77, s. 248-252.

Uwagi

1. Opracowanie rekordu w ramach umowy 509/P-DUN/2018 ze środków MNiSW przeznaczonych na działalność upowszechniającą naukę (2019).

2. Praca powstała przy udziale środków statutowych zlecenie nr 0401/0148/18 oraz 049U/0018/19.