Czysta modyfikacja powierzchni elastomerów w celu poprawy adhezji z zastosowaniem plazmy niskotemperaturowej

• Autorzy: Tyczkowski J. , Krawczyk I. , Woźniak B.

Warianty tytułu

EN

Clean modification of elastomer surfaces by low-temperature plasma treatment for improved adhesion

• Języki publikacji: PL

Słowa kluczowe

PL

elastomery; powierzchnia elastomerów; plazma niskotemperaturowa; adhezja

EN

elastomers; elastomer surface; low-temperature plasma; adhesion

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przemysł Chemiczny
• Rocznik: 2008
• Tom: T. 87, nr 9
• Strony: 937--940
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Tyczkowski J.

• Zakład Inżynierii Molekularnej, Wydział Inżynierii Procesowej i Ochrony Środowiska, Politechnika Łódzka, ul. Wólczańska 213, 90-924 Łódź

autor

Krawczyk I.

• Politechnika Łódzka
• Instytut Przemysłu Skórzanego, Łódź

autor

Woźniak B.

• Instytut Przemysłu Skórzanego, Łódź

Bibliografia

• 1. J.M. Martin Martinez, J.C. Fernandez-Garcia, A.C. Orgiles-Barcelo, J. Adhes. Sci. Technol. 1992, 6, 1091.
• 2. D. Oldtield, T.E.F. Symes, J. Adhes. 1992, 39, 91.
• 3. M.M. Pastor-Blas, R. Torregrosa-Marcia, J.M. Martin Martinez, J.G. Dillard, Int. I. Adhes. Adhes., 1997, 17, 133.
• 4. M.D. Romero-Sanhez, M.M. Pastor-Blas, T. del Pilar Ferrandiz-Gomez, J.M. Martin Martinez, Int. I. Adhes. Adhes. 2001, 21, 101.
• 5. J.M. Martin Martinez, J.C. Fernandez-Garcia, F. Huberta, A.C. Orgiles-Barcelo, Rubber Chem. Technol. 1991, 64, 510.
• 6. M.M. Pastor-Blas, M.S. Sanchez-Adsuar, J.M. Martin Martinez, J. Adhes. Sci. Technol. 1994, 8, 1093.
• 7. J. Tyczkowski, Przem. Chem. 2003, 82, nr 8–9, 1262.
• 8. J. Tyczkowski, I. Krawczyk, B. Woźniak, [w:] Plasma and polymers, (red. R. d’Agostino, P. Favia, C. Oehr i M. E. Werheimer), 2005, rozdz. 18, 233–252.
• 9. I. Krawczyk, J. Tyczkowski, B. Woźniak, Pol. J. Appl. Chem. 2005, 49, nr 1–2, 61.
• 10. Z. Wirpsza, Polyurethanes – Chemistry, technology and applications, Ellis Horwood, New York 1993.
• 11. S. Ozaki, Chem. Revs. 1972, 72, 457.
• 12. P.M. Chu, F.R. Guenther, G.C. Rhoderick, W.J. Lafferty, J. Res. Natl. Inst. Stand. Technol. 1999, 104, 59.