PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Kinetyka wzrostu powłok Al2O3 osadzanych metodą PED i PLD

Identyfikatory
Warianty tytułu
EN
Kinetics of AI2O3 film growth deposited by PED and PLD method
Języki publikacji
PL
Abstrakty
PL
Celem pracy było zbadanie kinetyki osadzania powłok dwoma metodami PVD: PLD - pulsacyjną ablacją laserową oraz PED - pulsacyjną ablacją elektronową. Otrzymano serie powłok A120, na podkładzie Si. W zależności od ciśnienia tlenu panującego w komorze przy danej liczbie strzałów otrzymano powłoki o różnej grubości, a więc przy różnej szybkości osadzania. Metodą XRD oraz SEM-EDS potwierdzono obecność A120, na powierzchni. Wykazano, iż dobór ciśnienia panującego w komorze ma istotny wpływ na morfologię powłoki.
EN
The objective of the research was to investigate the kinetics of thin film deposition by two PVD methods: PLD - Pulsed Laser Deposition and PED - Pulsed Electron Deposition. A series of Al2O3 coatings on the Si substrate were obtained. Depending on the oxygen pressure in the chamber by a given number of shots coatings with different thickness were obtained, which means with a different deposition rate. The presence of Al203, was confirmed by means of XRD and SEM-EDS methods. lt has been shown that the oxygen pressure in the chamber has a major impact on the morphology of the coatings.
Rocznik
Strony
463--466
Opis fizyczny
Bibliogr. 13 poz., rys., tab.
Twórcy
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie
  • Instytut Inżynierii Materiałowej, Zachodniopomorski Uniwersytet Technologiczny w Szczecinie
Bibliografia
  • [1] Wang J., Yu Y. H., Lee S. C., Chung Y. W.: Tribological and optical properties of crystalline and amorphous alumina thin film grown by low- temperature reactive magnetron sputter-deposition. Surface and Coatings Technology 146-147 (2001) 189÷194.
  • [2] Haanappel V. A. C., Van Corbach H. D., Fransen T., Gellings P. J.: Properties of alumina films prepared by low-pressure metal-organic chemical Vapor deposition. Surface and Coatings Technology 72 (1995) 13÷22.
  • [3] Pillonnet A., Garapon C., Champeaux C., Bovier C., Jaffrezic H., Mugnier J.: Fluorescence of Cr3* doped alumina optical waveguides prepared by pulsed laser deposition and sol-gel method. Journal of Luminescence 87-89 (2000) 1087÷1089.
  • [4] Chaug Y. S., Roy N.: Reactions at the aluminum oxide-ferrite interface. Thin Solid Films 193-194 (1990) 959÷964.
  • [5] Ruppi S., Larsson A.: Chemical Vapour deposition of K-AIZO3. Thin Solid Films 388 (2001) 50÷61.
  • [6] Chrisey D. B., Hubler G. K.: Pulsed laser deposition of thin films. Wiley, New York (1994).
  • [7] Strikowski M. D., Kim J., Kolagani S. H.: Plasma energetics in pulsed laser and pulsed elektron deposition. Springer Handbook of Crystal Growth (2010) 1193÷1211.
  • [8] Irissou E., Le Drogoff B., Chaker M., Trudeau M., Guay D.: Nanostructured gold thin films prepared by pulsed laser deposition. Journal of Materials Research 19 (2004) 950÷958.
  • [9] Irissou E., Le Drogoff B., Chaker M., Guay D.: Correlation between plasma expansion dynamics and gold-thin film structure during pulsed-laser deposition. Applied Physics Letters 80 (2002) 1716÷1718.
  • [10] Riabinina D., Chaker M., Rosei F.: Correlation between plasma dynamics and porosity of Ge films synthesized by pulsed laser deposition. Applied Physics Letters 89 (2006) 131501/1÷131501/3.
  • [11] Di Fonzo F., Bailini A., Russo V., Baserga A., Cattaneo D., Beghi M. G., Ossi P. M., Casari C. S., Li Bassi A., Bottani C. E.: Synthesis and characterization of tungsten and tungsten oxide nanostructureć, films. Catalysis Today 116 (2006) 69÷73.
  • [12] Di Fonzo F., Tonini D., Li Bassi A., Casari C. S., Beghi _\/I. G., Bottani C. E., Gastaldi D., Vena P., Contro R.: Growth regimes in pulsed laser deposition of aluminum oxide films. Applied Physics A 93 (2008) 765÷769.
  • [13] Cibert C., Hidalgo H., Champeaux C., Tristant P., Tixier C., Desmaison J., Catherinot A.: Properties of aluminum oxide thin films deposited by pulsed laser deposition and plasma enhanced chemical Vapour deposition. Thin Solid Films 516 (2008) 1290÷1296.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-db130006-9f92-4134-b1f8-6accb2fe4f06
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.