Wytwarzanie ultra cienkich warstw z wykorzystaniem line 440 sputtering system

• Autorzy: Lubańska Z. , Grudniewski T. , Chodyka M.

Warianty tytułu

EN

Ultra thin layer preparation with using the line 440 sputtering system

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule omówiono jedną z możliwych technik nanoszenia cienkich warstw na podłoża szklane jaką jest sputtering magnetronowy. Metoda polega na nanoszeniu na przygotowane podłoża, materiałów w wyniku rozpylania plazmowego. LINE 440 jest aparaturą najnowszej generacji wykorzystywaną do celów naukowo-badawczych w Centrum Badań nad Innowacjami przy Państwowej Szkole Wyższej w Białej Podlaskiej.

EN

The article describes one of the possible techniques for thin films preparation on glass substrates. The method involves applying to the surface of sample externally controlled media, which is sprayed in a magnetic field and then deposited onto a substrate. Line 440 is the latest generation apparatus used for the purposes of research at the Center for Innovation Research at the State School in Biala Podlaska.

Słowa kluczowe

PL

elektronika; sputtering magnetronowy; plazma

EN

electronic; magnetron sputtering; plasma

• Wydawca: Instytut Naukowo-Wydawniczy "TTS" Sp. z o.o
• Czasopismo: TTS Technika Transportu Szynowego
• Rocznik: 2015
• Tom: R. 22, nr 12
• Strony: 2693--2695
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., rys.

Twórcy

autor

Lubańska Z.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

autor

Grudniewski T.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

autor

Chodyka M.

• Państwowa Szkoła Wyższa im. Papieża Jana Pawła II w Białej Podlaskiej, Wydział Nauk Ekonomicznych i Technicznych, Katedra Nauk Technicznych, Zakład Informatyki

Bibliografia

• 1. Sahin A., Kaya H., Thin-Film Solar Cells, (2010).
• 2. Rossnagel S.M., Sputter Deposition Sproul W.D.,. Legg K.O (Eds.), Opportunities for Innovation Advanced Surface Engineering, Technomic Publishing Co, Switzerland, (1995).
• 3. Park M. W.,. Lee W. W,. Lee J. G,. Lee Ch. M, A Comparison of the Mechanical Properties of RF- and DC- Sputter- Deposited Cr Thin Films, Materials Science, (2007).
• 4. Batzill M., Diebold U., The surface and materials science of thin oxide, Progress in Surface Science 79 (2005).
• 5. Posadowski W. M.: Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, (1999).
• 6. Musil J., Baroch P., Vlcek J., Nam K.H., Han J.G.: Reactive magnetron sputtering of thin films: present and trends, Thin Solid Films, (2005).
• 7. Kaczmarek D., Modyfikacja wybranych właściwości cienkich warstw TiO2, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2008.
• 8. Luhin V., Zarapin V., Zharski I., Zhukowski P.: Sensorowe właściwości cienkich warstw SnO2 wytwarzanych rozpylaniem magnetronowym, Elektronika. Konstrukcje, technologie, zastosowania 11/2011.