Proces rozpylania techniką magnetronową w atmosferze dwóch gazów reaktywnych

• Autorzy: Brudnik A. , Zakrzewska K.

Identyfikatory

DOI

10.15199/ELE-2014-166

Warianty tytułu

EN

Process of magnetron sputtering in an atmosphere with two reactive gasses

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono opis zjawiska rozpylania tarczy tytanowej w atmosferze zawierającej dwa różne gazy reaktywne (azot, tlen). Analizę procesu przeprowadzono w oparciu o model procesu reaktywnego rozpylania bazujący na zmianie współczynników wydajności rozpylania tarczy, której powierzchnia jest częściowo metaliczna, a częściowo pokryta warstwą związków chemicznych (tlenków, azotków).

EN

This work presents description of sputtering of Ti target in gas atmosphere containing two reactive components (nitrogen, oxygen). Analysis of the process is performed on the basic of the model that assumes the changes in the yield of deposition of the metallic target partially covered with chemical compounds (oxides, nitrides).

Słowa kluczowe

PL

reaktywne rozpylanie magnetronowe

EN

reactive magnetron sputtering

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2014
• Tom: Vol. 55, nr 10
• Strony: 34--36
• Opis fizyczny: Bibliogr. 10 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Brudnik A.

• AGH Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, Wydział Informatyki Elektroniki i Telekomunikacji, Katedra Elektroniki

autor

Zakrzewska K.

• AGH Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, Wydział Informatyki Elektroniki i Telekomunikacji, Katedra Elektroniki

Bibliografia

• [1] Brauer G., Szyszka B., Vergohl M., Bandorf R.: Magnetron sputtering – Milestones of 30 years, Vacuum 84 (2010) 1354–1359.
• [2] Posadowski W. M.: Niekonwencjonalne układy magnetronowe do próżniowego nanoszenia cienkich warstw,: Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2001.
• [3] Brudnik A., Bućko M., Radecka M., Trenczek-Zając A., Zakrzewska K.: Microstructure and optical properties of photoactive TiO2:N thin films. Vacuum 82 (2008) 936–941.
• [4] Grätzel M., Photoelectrochemical cells. Nature 414 (2001) 338–344.
• [5] Radecka M., Pamula E., Trenczek-Zajac A., Zakrzewska K., Brudnik A., Kusior E., Kim-Ngan N. T. H., Balogh A. G.: Chemical composition, crystallographic structure and impedance spectroscopy of titanium oxynitride TiNxOy thin films. Solid State Ionics, 192 (2011) 693–698.
• [6] Berg S., Blom H. O., Larsson T., Nender C.: Modeling of reactive sputtering of compound materials, J Vac. Sci.Technol. A5 (1987) 202–207.
• [7] Brudnik A.: Kontrola procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego–analiza modelu, Elektronika: konstrukcje, technologie, zastosowania, 8 (2011) 72–74.
• [8] Brudnik A.: Diagnozowanie procesu reaktywnego rozpylenia, Elektronika: konstrukcje, technologie, zastosowania 5 (2011) 132–134.
• [9] Trenczek-Zając A., Radecka M., Zakrzewska K., Brudnik A., Kusior E., Bourgeois S., Marco de Lucas M., Imhoff L.: Structural and electrical properties of magnetron sputtered Ti(ON) thin films: the case of TiN doped in situ with oxygen, J. Power Sources 194 (2009) 93–103.
• [10] National Institute of Standards and Technology’s web site – http://webbook.nist.gov.