Schemat zastępczy i charakterystyki elektrodynamiczne mikrofalowego aplikatora plazmowego typu rezonator wnękowy

• Autorzy: Sobański M. , Barbucha R. , Lubański M. , Dors M. , Jasiński M. , Mizeraczyk J.

Warianty tytułu

EN

Equivalent circuit of existing cavity-resonant type microwave plasma applicator

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Mikrofalowe aplikatory plazmowe wykorzystuje się między innymi do obróbki gazów, w tym do produkcji wodoru poprzez reforming węglowodorów. Omówiony aplikator plazmowy pracuje przy częstotliwości 2,45 GHz. Wyładowanie mikrofalowe powstaje w tym aplikatorze pod ciśnieniem atmosferycznym. Głównym elementem konstrukcyjnym aplikatora jest falowód o obniżonej wysokości, w którym zamontowano dwie elektrody w postaci prętów. Dość dobra zgodność wyników obliczeń charakterystyk strojenia z wynikami pomiarów świadczy o tym, że mimo pewnych ograniczeń w stosowaniu schematów zastępczych o stałych skupionych są one przydatne w praktyce.

EN

We present equivalent circuit of existing cavity-resonant type microwave plasma applicator. The applicator can be used for conversion of hydrocarbons into hydrogen. It operates at atmospheric pressure and frequency of 2.45 GHz. The discussed applicator construction is based on ideas described in US patent applications. There are two electrodes mounted in reduced height waveguide. The equivalent circuit includes formulas which allow to calculate tuning characteristics of discussed cavity-resonant-type microwave applicator. The calculated tuning characteristics are very similar to those obtained from an experiment.

Słowa kluczowe

PL

aplikator plazmowy; plazma mikrofalowa; wyładowanie mikrofalowe; produkcja wodoru; schemat zastępczy

EN

plasma applicator; microwave plasma; microwave discharges; hydrogen production; equivalent circuit

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2012
• Tom: R. 88, nr 11b
• Strony: 72--74
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., rys., wz.

Twórcy

autor

Sobański M.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk

autor

Barbucha R.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk

autor

Lubański M.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk

autor

Dors M.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk

autor

Jasiński M.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk

autor

Mizeraczyk J.

• Ośrodek Techniki Plazmowej i Laserowej, Instytut Maszyn Przepływowych im. Roberta Szewalskiego, Polskiej Akademii Nauk
• Katedra Elektroniki Morskiej, Akademia Morska w Gdyni

Bibliografia

• [1] Bayliss K.H. et. all, Plasma generator with field-enhancing electrodes, patent amerykański nr. US 5418430, (1995)
• [2] Gillespie R.F. et. all, Plasma gas processing, patent amerykański nr. US 6126779, (2000)
• [3] Williamson W.S. et. all, Fuel reforming apparatus for producing a carbon-monoxide free reformed fuel gas comprising hydrogen, zgłoszenie patentowe nr. US 2004/118046 A1, (2004)
• [4] Litwin R., Suski M., Technika Mikrofalowa, WNT, Warszawa 1972