Procesy wytwarzania periodycznych struktur o wymiarach nanometrowych w GaN przy użyciu technik litografii NIL

• Autorzy: Ekielski M. , Juchniewcz M. , Piotrowska A.

Warianty tytułu

EN

Fabricating periodic GaN nanostructures via Nanoimprint Lithography

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Omówiono podstawy technik litografii z wykorzystaniem procesu nanostemplowania (NIL), dokonano przeglądu materiałów do wytwarzania stempli oraz rezystów do kształtowania wzorów, przedyskutowano najważniejsze problemy występujące przy implementacji procesów NIL w praktyce. Zaprezentowano wyniki prac własnych nad wytwarzaniem periodycznych nanostruktur GaN o wymiarach krytycznych od 50 do 300 nm przy pomocy technik Th-NIL oraz UV-NIL z użyciem replik polimerowych oraz trawienia ICP w plazmie BCl3/Cl2.

EN

Fundamentals of Nanoimprint Lithography (NIL) have been presented, stamp materials, resists and fabrication processes have been overviewed, main problems encountered in implementing NIL in practice have been discussed. Recent results on fabrication periodic GaN nanostructures with critical dimensions ranging from 50 to 300 nm by using Th-NIL and UV-NIL combined with polymer replicas and ICP etching in BCl3/Cl2 plasma have been presented.

Słowa kluczowe

PL

nanostemplowanie; litografia; GaN; trawienie ICP

EN

nanoimprint lithography; nanoimprint; GaN; ICP etching

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Przegląd Elektrotechniczny
• Rocznik: 2013
• Tom: R. 89, nr 10
• Strony: 57--60
• Opis fizyczny: Bibliogr. 21 poz., rys.

Twórcy

autor

Ekielski M.

• Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

autor

Juchniewcz M.

• Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

autor

Piotrowska A.

• Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Chou S.Y.,. Krauss P.R, Renstrom P.J., Imprint of sub‐25 nm vias and trenches in polymers; App. Phys. Lett., 67, (1995), 3114-3116
• [2] Colburn M., Johnson S., Stewart M., Damle S., Bailey T., Choi B., Wedlake M., Michaelson T., Sreenivasan S.V., Ekerdt J., Willson C.G., Step and flash imprint lithography: a new approach to high-resolution patterning Proc. SPIE, 3676(I), (1999), 379
• [3] Colburn M., Grot A., Amistoso N.M., Choi B.J., Bailey T.C., Ekerdt J.G.,. Sreenivasan S.V., Hollenhorst J., Willson C.G., Step and flash imprint lithography for sub-100-nm patterning, Proc. SPIE, 3997, (2000), 453
• [4] Bailey T.C., Johnson S.C., Sreenivasan S.V., Ekerdt J.G., Willson C.G., Resnick D.J., Step and Flash Imprint Lithography: An Efficient Nanoscale Printing Technology, J. Photopolym. Sci. Technol. 15, (2002), 481-486
• [5] Lee E.-S., Jeong J.-H., Sim Y.-S., Kim K.-D., Choi D.-G., Choi J.-H., High-throughput step-and-repeat UV-nanoimprint lithography, Curr. Appl. Phys. 6S1, (2006), 92–98
• [6] Jeong J.-H., Kim K.-D., Sim Y.-S., Sohn H., Lee E.-S., A stepand- repeat UV-nanoimprint lithography process using an elementwise patterned stamp Microelectron. Eng., 82, (2005), 180–188
• [7] Haatainen T., Majander P., Makela T., Ahopelto J., Kawaguchi Y., Imprinted 50 nm Features Fabricated by Step and Stamp UV Imprinting, Jpn. J. Appl. Phys. 47, (2008), 5164-5166
• [8] Dumond J.J., Mahabadi K.A., Yee Y.S., Tan C., Ying J., Hsi Fuh, Pueh Lee H., Yee H. Low, High resolution UV roll-to-roll nanoimprinting of resin moulds and subsequent replication via thermal nanoimprint lithography, Nanotechnology, 23, (2012), 485310
• [9] Dumond J.J., Low H.Y., Recent developments and design challenges in continuous roller micro- and nanoimprinting, J. Vac. Sci. Technol. B, 30, (2012), 010801
• [10] Inanami R., Ojima T., Matsuki K., Kono T., Nakasugi T.; Sub- 100 nm pattern formation by roll-to-roll nanoimprint Proc. SPIE, 8323, (2012), 83231J
• [11] Beck M., Graczyk M., Maximov I., Sarwe E.-L., Ling T.G.I., Keil M., Montelius L., Improving stamps for 10 nm level wafer scale nanoimprint lithography, Microelectron. Eng. 61, (2002), 441-448
• [12] Schift A.H., Saxer S., Park S., Padeste C., Pieles U., Gobrecht J., Controlled co-evaporation of silanes for nanoimprint stamps, Nanotechnology 16, (2005), 171-175
• [13] Kawaguchi Y., Nonaka F., Sanada Y., Fluorinated materials for UV nanoimprint lithography, Microelectron. Eng., 84, (2007), 973-976
• [14] Cheng X., Jay Guo L., One-step lithography for various size patterns with a hybrid mask-mold, Microelectron. Eng. 71, (2004), 288-293
• [15] Schift H., Spreu C., Schleunitz A., Gobrecht J., Klukowska A., Reuther F., Gruetzner G., Easy mask-mold fabrication for combined nanoimprint and photolithography, J. Vac. Sci. Technol. B, 27, (2009), 2850
• [16] Sotomayor Torres C.M., Alternative Lithography: Unleashing the Potentials of Nanotechnology, Kluwer Academic Publishers, (2003)
• [17] Cui Z., Nanofabrication: Principles, Capabilities and Limits, Springer (2008)
• [18] Lan H., Ding Y., Liu H., Nanoimprint Lithography: Principles, Processes and Materials, Nanotechnology Science and Technology (2011)
• [19] Guo J., J. Phys. D: Appl. Phys., 37, (2004), R123–R141
• [20] Guo J., Nanoimprint Lithography: Methods and Material Requirements Adv. Mater., 19, (2007), 495-513
• [21] Ekielski M., Sidor Z., Juchniewicz M., Płuska M., Wzorek M., Piotrowska A., Kucharski R., Kolkovsky V., Żytkiewicz Z., Gruszka M., Nanostemplowanie w zastosowaniu do wytwarzania struktur fotonicznych w GaN, Elektronika, 9, (2012), 16-19