Tytuł artykułu
Autorzy
Wybrane pełne teksty z tego czasopisma
Identyfikatory
Warianty tytułu
Głęboka implantacja jonów: zalety i problematyka bieżąca
Konferencja
Ion Implantation and Other Applications of Ions and Electrons-ION'98 / International Symposium (II ; 16-19.06.1998 ; Kazimierz Dolny, Poland)
Języki publikacji
Abstrakty
The advantages of swift heavy ions (∼1 MeV/u) application for analysis and treating of solids in order to modify their properties are briefly summarised. As an illustration some examples of this application are also quoted.
Przedstawiono krótko zalety zastosowania szybkich ciężkich jonów (∼1 MeV/u) do analizy i obróbki materiałów w celu modyfikacji ich własności. Przytoczono również kilka przykładów ilustrujących to zastosowanie.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Tom
Strony
271--276
Opis fizyczny
Bibliogr. 7 poz., wykr.
Twórcy
autor
- Institute of Physics, Warsaw University of Technology, 75 Koszykowa Str., 00-662 Warsaw, Poland Institute of Atomic Energy, 05-400 Swierk/Otwock, Poland, slowb@cx1.cyf.gov.pl
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-PWA9-0001-0033