PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Deep ion implantation: advantages and current problems

Autorzy
Identyfikatory
Warianty tytułu
PL
Głęboka implantacja jonów: zalety i problematyka bieżąca
Konferencja
Ion Implantation and Other Applications of Ions and Electrons-ION'98 / International Symposium (II ; 16-19.06.1998 ; Kazimierz Dolny, Poland)
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
The advantages of swift heavy ions (∼1 MeV/u) application for analysis and treating of solids in order to modify their properties are briefly summarised. As an illustration some examples of this application are also quoted.
PL
Przedstawiono krótko zalety zastosowania szybkich ciężkich jonów (∼1 MeV/u) do analizy i obróbki materiałów w celu modyfikacji ich własności. Przytoczono również kilka przykładów ilustrujących to zastosowanie.
Słowa kluczowe
Czasopismo
Rocznik
Strony
271--276
Opis fizyczny
Bibliogr. 7 poz., wykr.
Twórcy
  • Institute of Physics, Warsaw University of Technology, 75 Koszykowa Str., 00-662 Warsaw, Poland Institute of Atomic Energy, 05-400 Swierk/Otwock, Poland, slowb@cx1.cyf.gov.pl
Bibliografia
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-PWA9-0001-0033
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.