Positive and negative ion production in the ion sputtering process

Droździel, A.; Kornarzyński, K.; Romanek, J.; Mączka, D.; Latuszyński, J.

Artykuł - szczegóły

Tytuł artykułu

Positive and negative ion production in the ion sputtering process

Autorzy

Droździel A. , Kornarzyński K. , Romanek J. , Mączka D. , Latuszyński J.

Wybrane pełne teksty z tego czasopisma

Identyfikatory

Warianty tytułu

Konferencja

Ion Implantation and Other Applications of Ions and Electrons-ION'98 / International Symposium (II ; 16-19.06.1998 ; Kazimierz Dolny, Poland)

Języki publikacji

Abstrakty

To study the secondary ion emission the special apparatus had been designed and constructed by which measurements of current intensity of positive and negative ions generated in this process were performed. The article presents the characteristics of current intensities of positive and negative ions sputtered from a source in dependence on the energy and intensity of bombarding argon ions, voltage and current of arc discharge as well as extraction voltage of ions from the area of a sputtered electrode. From these characteristics the coefficients of secondary ion emission were determined for Al, Ti and Cu targets. It has been shown that the constructed apparatus can be also used for production of positive and negative ions for ion implantation purposes.

W celu badania wtórnej emisji jonowej zostało zaprojektowane i wykonane stanowisko pomiarowe, za pomocą którego przeprowadzono pomiary natężeń prądów jonów dodatnich i ujemnych powstających w tym procesie. Artykuł prezentuje charakterystyki natężeń prądów jonów dodatnich i ujemnych uzyskiwanych ze źródła w zależności od energii i natężenia bombardujących jonów argonu, napięcia i prądu anodowego wyładowania łukowego oraz napięcia ekstrakcyjnego, wyciągającego jony z obszaru elektrody rozpylanej. Na ich podstawie określono współczynniki wtórnej emisji jonowej dla Ar,Ti i Cu. Pokazano, że zbudowane urządzenie można wykorzystać do produkcji jonów dodatnich i ujemnych dla celów implantacji jonowej.

Słowa kluczowe

ion sputtering process ion emission ion implantation

rozpylanie jonowe emisja jonowa implantacja jonów

Wydawca

Institute of Nuclear Chemistry and Technology

Czasopismo

Nukleonika

Rocznik

1999

Tom

Vol. 44, nr 2

Strony

111--118

Opis fizyczny

Bibliogr. 3 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Droździel A.

autor

Kornarzyński K.

autor

Romanek J.

autor

Mączka D.

autor

Latuszyński J.

Institute of Physics, Maria Curie-Sklodowska University, Pl. M. Curie-Sklodowskiej 1, 20-031 Lublin, Poland

Bibliografia

Typ dokumentu

Bibliografia

Identyfikator YADDA

bwmeta1.element.baztech-article-PWA9-0001-0010