Metoda kontroli stanu plazmy podczas megnetronowego wyładowania jarzeniowego

• Autorzy: Stec A.
• Konferencja: VII Krajowa Konferencja Techniki Próżni (7; 18-21.09.2005; Cedzyna, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

EN

The paper presents some aspects of reactive sputtering. most popular control methods are described. Current-voltage relation and modelling dynamics of reactive sputtering are presented. Block diagram of a feedback system for process control is proposed.

Słowa kluczowe

PL

wyładowanie jonowe; wyładowanie jarzeniowe; plazma; reaktywne rozpylanie

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika
• Rocznik: 2005
• Tom: z. 153
• Strony: 67--74
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., wykr.

Twórcy

autor

Stec A.

• KIiA Politechniki Rzeszowskiej, ul. W. Pola 2, 35-959 Rzeszów

Bibliografia

• [1] H. Cztemastek, A. Brudnik, M. Jachimowski, E. Kolawa, J. Phys. D: Appl. Phys., 25, s. 865-870, 1992.
• [2] J. Chapin, C.R. Condon, U.S. Patent 4166784, s.1-10, 1979.
• [3] U. Heister, J. Krempel-Hesse, J. Szczyrbowski, G. Teschner, J. Bruch, G. Brauer, Vacuum, 59, s. 424-430, 2000.
• [4] W.M. Posadowski, Thin Solid Films, 343-344, s. 85-89, 1999.
• [5] A. Stec, Rozprawa doktorska, Wydział Elektrotechniki i Informatyki Politechniki Rzeszowskiej, 2004.
• [6] J.A. Thornton, J. Vac. Sci. Technol., vol. 15, no. 2, s. 171-177,1978.
• [7] A. Stec, Prace Naukowe PW Elektronika z. 143, s. 131-134, 2002.