Modification of silicon surface under the action of compression plasma flow

• Autorzy: Anishchik V. , Uglov V. , Astashynski V. , Ananin S. , Askerko V. , Kostyukevich E. , Kuzmitski A. , Kvasov N. , Daniluk A. , Astashynski V. M.
• Konferencja: Techniki Próżni i Technologie Próżniowe (6; 7; 22-25.09.2002; Korbielów, Polska)
• Języki publikacji: EN

Słowa kluczowe

PL

powierzchnie silikonowe; plazma

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika
• Rocznik: 2002
• Tom: z. 143
• Strony: 175--178
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., schem., rys.

Twórcy

autor

Anishchik V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Uglov V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Astashynski V.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

autor

Ananin S.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Askerko V.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kostyukevich E.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kuzmitski A.

• Instytut Fizyki Molekularnej i Atomowej Narodowej Akademii Nauk Białorusi

autor

Kvasov N.

• Białoruski Państwowy Uniwersytet Informatyki i Radioelektroniki

autor

Daniluk A.

• Białoruski Państwowy Uniwersytet Informatyki i Radioelektroniki

autor

Astashynski V. M.

• Białoruski Uniwersytet Państwowy

Bibliografia

• 1. V.V. Uglov, V.M. Anishchik, V.V. Astshynski, et al. JETP Letters, 74(2001)234.
• 2. A.I. Morozov. Sov. J. Plasma Phys. 1(1975)95.
• 3. V.M. Astashinskii, V.V. Efremov, E.A. Kostyukevich, et al. Sov. J. Plasma Phys. 17(1991)545.
• 4. V.M. Astashinskii, G.i. Bakanovich, A.M. Kuz’mitskii, et al. J. Engineering Physics and Thermophysics 62(1992)281.