Spektroskopia elektronów Augera (AES) w badaniach wzrostu cienkich warstw na przykładzie warstw Co/Cu na Si(100)

• Autorzy: Jaworski J. , Marszałek M. , Marszałek K. , Kąc M.
• Konferencja: Techniki Próżni i Technologie Próżniowe (6, 7; 23-25.09.2002; Korbielów, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

EN

In this paper we have investigated the growth of components Co/Cu multilayers and different buffer layers (Cu,Pb) on the Si (100) substrate using peak-to-peak method of Auger Electron Spectroscopy. We have observed that even so simple systems like single Co and single Cu layers on Si substrate show a very complicated type of growth, which changes with the thickness of evaporated metal. During growth of Co/Cu multilayers on the Cu buffer, disposition of Co results in coarsening of the system surface. In contrary, Cu desposition leads to the increase of the surface roughness. The Pb buffer layer complicates the structure of the system. Segregation of the Pb to the surface of the sample can result in the formation of metal precipitates. Peak-to-peak method brings valuable information about type of the metal growth, and proposed normalization method allows a proper interpretation of results. However, it does not apply to metals that segregate to the system surface.

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika
• Rocznik: 2002
• Tom: z. 143
• Strony: 73--78
• Opis fizyczny: Bibliogr. 8 poz., wykr.

Twórcy

autor

Jaworski J.

• Instytut Fizyki Jądrowej im. Henryka Niewodniczańskiego, Kraków

autor

Marszałek M.

• Instytut Fizyki Jądrowej im. Henryka Niewodniczańskiego, Kraków

autor

Marszałek K.

• Akademia Górniczo-Hutnicza im. S. Staszica, Kraków

autor

Kąc M.

• Instytut Fizyki Jądrowej im. Henryka Niewodniczańskiego, Kraków

Bibliografia

• 1. S. Mróz, Spektroskopia elektronów Augera, Wydawnictwo Uniwersytetu Wrocławskiego, Wrocław 1992.
• 2. H. Luth, Surfaces and interfaces of solid material, Springer, Berlin Heidelberg, 1998, wyd. III.
• 3. S. Ossicini, R. Memeo, F. Ciccacci, J. Vac. Technol. Vol. A3, s. 387, 1985.
• 4. M. Marszałek, J. Jaworski, A. Michalik, J. Prokop, Z. Stachura, V. Voznyi, O. Bolling, B. Sulkio, Cleff, J. Mang. Mang. Mat. Vol. 226-230, s. 1735-1737, 2001.
• 5. H. Otop, S. Mróz, Z. Jankowski, Vacuum, vol. 54, s. 79, 1999.
• 6. K. Kusunaki, S. Nishikawa, Scripta Met. 12, s. 615, 1978.
• 7. B. Dyson, T.R. Anthony, D. Turnbull, J. Appl. Phys. 37, s. 370, 1966.
• 8. V.A. Gorbachev et al., Fiz. Met. Metalloved, 44(1977)214.