Cienkie powłoki z tlenoazotku i dwutlenku krzemu otrzymywane metodą PE-CVD pod ciśnieniem atmosferycznym

• Autorzy: Schmidt-Szałowski K. , Rymuza Z. , Rżanek-Boroch Z. , Kusznierewicz Z. , Sentek J. , Misiak M.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Nowość badanej metody typu PE-CVD (plazmowego osadzania powłok z fazy gazowej) polega na zastosowaniu wyładowania niejednorodnego pod ciśnieniem atmosferycznym. Przez polikondensację substancji krzemoorganicznych (HMDSN oraz TEOS) otrzymywano amorficzne powłoki ze związków krzemu o grubości 10-200 nm. Przez dobór warunków wyładowania można było uzyskać powłoki o dużej twardości, zawierające znikome ilości substancji organicznych albo-odwrotnie-zawierajace znaczne ilosci składników organicznych, o mniejszej twardości i o małym współczynniku tarcia.

EN

The novelty of the PE-CVD process under investigation consists in using of non-homogeneous electric barrier-discharges operating under atmospheric pressure. Amorphous 10-200 nm thick films of silicon, compounds were deposited by polycondensation of organo-silicon substances (HMDSN and TEOS). Under selected discharge conditions, it was possible to obtain hard films with very low content of organic admixtures or, on the other hand, much softer ones of low friction coefficient and containing considerable amounts of organic components.

Słowa kluczowe

PL

dwutlenek krzemu; tlenek azotu; ciśnienie atmosferyczne; plazma

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2000
• Tom: z. 12
• Strony: 33--42
• Opis fizyczny: Bibliogr. 18 poz., wykr., tab.

Twórcy

autor

Schmidt-Szałowski K.

autor

Rymuza Z.

autor

Rżanek-Boroch Z.

autor

Kusznierewicz Z.

autor

Sentek J.

autor

Misiak M.

• Wydział Chemiczny Politechniki Warszawskiej