Otrzymywanie cienkich warstw organicznych o kontrolowanej grubości

• Autorzy: Fabianowski W. , Mizerski T. , Zientek K. , Żebrowska E.
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Przedstawiono wyniki prac dotyczących otrzymywania cienkich warstw o kontrolowanej grubosci na drodze powtarzanego procesu samorzutnej adsorpcji. Opracowywano warunki utleniania wobec UV końcowych grup vinylowych w monowarstwach z II-trichlorosilylo-1-undekenu osadzonego na powierzchni płytek Si. Osadzono multiwarstwy z polielektrolitów, czyli z polianionu-sulfonowego polistyrenu i polikationu - poli(4-winylopirydyny). Multiwarstwy polielektrolitowe wzbogacono dodatkiem niskocząsteczkowych związków tworzących układy typu donor-akceptor. W ten sposób podjęto próbę otrzymania cienkich warstw o kontrolowanej grubości i kontrolowanym składzie.

EN

Research results of thin film self assembly deposition process with controlled thicknesses are presented. Two approaches of thin film construction are described. In the first one conditions of UV oxidation of terminal vinyl groups in (alfa) (w) trichlorosilyl alkenyl compounds are studied. In the second approach polyelectrolyte thin films from sulphonated polystyrene as polyanion and poly(4-vinyl pyridine) as polycation are deposited onto plass slides. Polyelectrolyte thin films are enriched with Donor-Acceptor type molecules. Coditions of tailormade thin films formation, with controlled both thicknesses and compositions are presented.

Słowa kluczowe

PL

cienkie warstwy; polielektrolity

• Wydawca: Oficyna Wydawnicza Politechniki Warszawskiej
• Czasopismo: Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2000
• Tom: z. 12
• Strony: 23--31
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., wykr.

Twórcy

autor

Fabianowski W.

autor

Mizerski T.

autor

Zientek K.

autor

Żebrowska E.

• Wydział Chemiczny Politechniki Warszawskiej