Electroforming and electroerosion of DLC films in cold electron emission process

• Autorzy: Jarzyńska D. , Staryga E. , Znamirowski Z. , Dłużniewski M.

Warianty tytułu

PL

Elektroformowanie i elektroerozja warstw DLC w procesie zimnej emisji polowej

• Konferencja: 15th Conference Molecular Crystals 2006
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Diamond-like carbon films were deposited onto silicon substrates by RF PCVD technique. The measurements of the emission current carried out in vacuum using diode configuration system. SEM examinations carried out after current emission measurements indicate on a defect of DLC surface morphology. The analysis both no defected and defected areas of DLC films during film emission measurements was made by Raman Spectroscopy technique. The Raman spectra showed sharp peak of amorphous silicon and no peaks characteristic for DLC films D and G bands in the damage region. The results indicate that DLC films may undergo electroforming and electroerosion processes during film emission measurements.

PL

Warstwy diamentopodobne osadzono na podłożu krzemowym przy użyciu techniki RF PCVD. Pomiary emisji wykonano w próżni 10-4 Pa, w układzie diodowym, w którym warstwa DLC stanowiła katodę. W trakcie emisji elektronów może zachodzić lokalne przegrzanie materiału, prowadzące, w kolejnych cyklach pomiarowych, do odparowania, bądź sublimacji warstwy DLC i zdefektowania jej powierzchni. Do analizy niezdefektowanych oraz zdefektowanych obszarów warstw DLC użyto spektroskopii Ramana oraz mikroskopii elektronowej SEM.

Słowa kluczowe

EN

DLC; electroforming; electroerosion; field emission

PL

DLC; elektroformowanie; elektroerozja; emisja polowa

• Wydawca: Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej
• Czasopismo: Scientific Bulletin. Physics / Lodz University of Technology
• Rocznik: 2006
• Tom: Vol. 26
• Strony: 55--60
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz.

Twórcy

autor

Jarzyńska D.

autor

Staryga E.

autor

Znamirowski Z.

autor

Dłużniewski M.

• Institute of Science and Engineering, Technical University of Łódź, 90-924 Łódź, Stefanowskiego 1,

Bibliografia

• [1] Obraztsov A.N., Zakhidov Al.A., Diamond Relat. Mater., 13 (2004) 1044.
• [2] Xu N.S., Huq S.E., Materials Sei. Eng. R, 48 (2005) 47.
• [3] Zhu W., Kochanski P.G., Jin S., Seibles L., J.Vac. Sei. Technol. B, 14 (1996) 2011.
• [4] Gröning O., Küttel O.M., et al., J. Vac. Sei. Technol. B., 17 (1999) 1064.
• [5] Geis M.W., Twichell J.C., et al, Appl. Phys. Lett., 67 (1995)1328.
• [6] Fowler R. H., Nordheim L., Proc. Roy. Soc. Lon. Ser. A., 119, (1928), 173.
• [7] Gröning O., Kuttel O.M., Gröning P., Schlapbach L., Appl. Surface Sei., 111, (1997), 135.
• [8] Forbes R., Solid State Electronics, 45 (2001), 779.
• [9] Znamirowski Z., Staryga E., Jarzyńska D., Nikliborc K., Karczemska A., Green M., Proc. International Conference 4-th Nanodiamond and Related Materials jointly with 6-th Diamond and Related Films, Zakopane, Poland, 28 June - 1 July, (2005), 149.