Warstwy węglowe (a-C:H) i uazotowione warstwy węglowe (a-C:N:H) na poliwęglanie

• Autorzy: Jonas S. , Nowak R. , Kot M. , Walasek E. , Krupa G.

Warianty tytułu

EN

Carbon layers (a-C:H) and nitrogenated carbon layers (a-C:N:H) on polycarbon

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka Powierzchniowa" (VI; 20-23.09.2005; Kule k. Częstochowy, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Amorficzne, uwodornione i uazatowione warstwy węglowe (a-C:H) i (aC:N:H) na podłożach metalicznych, ceramicznych i polimerowych sit interesującym materiałem dla elektroniki, optoelektroniki, przemysłu maszynowego i medycyny. Ich strukturę oraz właściwości elektryczne, optyczne i mechaniczne można regulować poprzez zmianę parametrów procesu osadzania Praca zawiera wyniki badań nad otrzymywaniem tego typu warstw na podłożu polimerowym (PC) metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej z użyciem plazmy (RFCVD). Warstwy otrzymywano w temperaturze nie przekraczającej 30 stopni C przy użyciu reakcyjnych mieszanin gazowych zawierających w swym składzie metan, wodór, argon i azot podawanych do reaktora w różnych proporcjach. Określono optymalne parametry procesu, w którym otrzymuje się warstwy dobrze przyczepne do podłoża. Skład chemiczny, strukturę i nanostrukturę warstw badano przy użyciu metod: fourierowskiej spektroskopii w podczerwieni (FTIR), mikroskopu skaningowego (SEM) oraz mikroskopu sił atomowych (AFM). Wykonano również badania właściwości tribologicznych tych warstw.

EN

Amorphous hydrogenated and nitrogenated carbon (a-CH) and (a-C:N:H) layers on metallic, ceramic and polymeric substrates are interesting materials for electronic, optoelectronic, mechanical industry and medicine. Their structure and properties can be modified through the change of deposition process parameters. The work contains the resuItants of investigations on obtaining this type of layers on (PC) substrates by using plasma enhanced chemical vapour deposition (RFCVD) method. The layers were deposited at the temperature not higher 30 degre C, using methane, hydrogen, argon and nitrogen which were provided in different ratio to reactor. It was defined the optimum process parameters in which can be obtained the good adhesive layers to the substrate. The investigation of chemical composition, structure and nanostructure of these layers were carried out by using FTIR spectroscopy, scanning microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM). The tribological properties were investigated by tribometer in a ball-on-disk configuration.

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 26, nr 5
• Strony: 742--744
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Jonas S.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Materiałów Ogniotrwałych i Procesów Wysokotemperaturowych

autor

Nowak R.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Materiałów Ogniotrwałych i Procesów Wysokotemperaturowych

autor

Kot M.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Mechanicznej i Robotyki, Zakład Konstrukcji i Eksploatacji Maszyn

autor

Walasek E.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Materiałów Ogniotrwałych i Procesów Wysokotemperaturowych

autor

Krupa G.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Materiałów Ogniotrwałych i Procesów Wysokotemperaturowych

Bibliografia

• [1] Goersch H., Handbook of Ophtthalmic Optics, 2nd ed, Carl Zeiss Oberkochen,1991.
• [2] Guo Y-B., Chau-Nan Hong F., Adhesion improvements for diamond-like carbon films on polycarbonate and polymethylmethacrylate substrates by ion plating with inductively coupled plasma, Diamond and Related Materials, vol.12, (2003), Issue:3-7.
• [3] Korzec D., Therich D., Werner F., Traub K., Emgemann J., Coatings on plastics with the PICVD technology, Thin Solid Films, vol. 442, (2003), Issue:1-2.
• [4] Taki Y., Kitagawa T., Takai O., Shielded arc ion plating and structural characterization of amorphous carbon nitride thin films, Thin Solid Films, vol.304, (1997) , Issue:1-2.
• [5] Ju J., Xia Y., Zhang W., Wang L., Tang D., Infrared optical properties of amorphous hydrogenated carbon nitride film, Journal of Non-Crystalline Solids, vol.278 (2000) Issue: 1-3.
• [6] Dul K., Łagosz I., Jonas S., Ptak W., Amorphous a-C:N:H layers formation by Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition, Inzynieria Materiałowa, nr.4, 2001.