Struktura i twardość warstw Ni, Cu i Co wytwarzanych elektrochemicznie

• Autorzy: Trzaska M.

Warianty tytułu

EN

Structure and hardness of Ni, en and Co surface layers produced by the electrochemical method

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka Powierzchniowa" (VI; 20-23.09.2005; Kule k. Częstochowy, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Powierzchniowe warstwy metalowe wytwarzane metodą redukcji elektrochemicznej odgrywają bardzo ważną rolę we współczesnej inżynierii materiałowej. Elektrochemiczny proces umożliwia wytwarzanie warstw powierzchniowych o różnej strukturze krystalicznej, a mianowicie o mikrometrycznych i nanometrycznych wymiarach ziarn, jak również materiałów amorficznych. Wytworzone tą metodą warstwy powierzchniowe charakteryzują się dużą jednorodnością strukturalną materiału oraz dobrą adhezją do podłoża. Mikrostruktura tak wytwarzanych materiałów kształtowana jest poprzez odpowiedni dobór składu chemicznego roztworu elektrolitu, określony sposób zasilania energetycznego oraz odpowiednie parametry, głównie prądowe, realizacji procesu elektrokrystalizacji. W pracy przedstawiono analizę wpływu rodzaju osadzanego metalu oraz składu chemicznego roztworu elektrolitu na strukturę oraz twardość warstw powierzchniowych wytwarzanych elektrochemicznie.

EN

Surface metallic layers produced by the electrochemical reduction method play the leading role in the modern materials engineering. The electrochemical process leads to producing the surface layers exhibiting such various crystal structures, as grains with micrometer and nanometer dimensions, as well as materials with amorphous structures. The surface layers produced by this method exhibit great structural homogeneity of the deposits with their very strong adhesion to the substrate. Microstructures of the surface layers produced in this way depend on an appropriate choice of the chemical composition of the electrolyte, on a proper energetic supplying and on a suitable control of corresponding parameters, i.e. mainly of the current source, during the realization of the crystallization process. The paper presents an analysis of the influence of the kind of the deposited specimens and the chemical composition of the used electrolyte on the structure and hardness of the surface layers produced by the electrochemical method.

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 26, nr 5
• Strony: 698--700
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Trzaska M.

• Politechnika Warszawska, Wydział Inżynierii Materiałowej

Bibliografia

• [1] Trzaska M.: Elektrokrystalizacja metali, Przegląd Elektrotechniczny, 80, 2004, 11.
• [2] Wong K.P., Chan K. C., Yue T. M.: Modeling of electrocrystallization for pulse current electroforming of nickel, Applied Surface Science, 178, 2001.
• [3] Na lwa H. S. (red.), Nanostructured Materials and Nanotechnology, Academic Press, San Diego, 2002.
• [4] Socha J . , Webe r J . A. : Podstawy elektrolitycznego osadzania stopów metali, IMP, Warszawa 2001.
• [5] Kowalewska M, Trzaska M.: Nanocrystalline nickel coatings produced by electroplating method, Archives of Materials Science.
• [6] Trzaska M.: Modyfikacja mikrostruktury warstw niklowych wytwarzanych prądem pulsującym, Przegląd Elektrotechniczny, 80, 2004, 3.
• [7] Trzaska M., Kowalewska M.: Wpływ zawartości Si3N4 w elektrolitycznych warstwach niklowych na zmianę ich właściwości tribologicznych, Archiwum Nauki o Materiałach, 23, 2002.