Zastosowanie prekursora metaloorganicznego w procesie syntezy TiAIC - technologia MO PVD-Arc

• Autorzy: Betiuk M. , Dąbrowski M. , Szudrowicz M. , Diduszko R. , Budryński K.

Warianty tytułu

EN

The application of metal organic precursor in TWC synthesis process by MO PVD-Arc method

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka Powierzchniowa" (VI; 20-23.09.2005; Kule k. Częstochowy, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W obecnie stosowanych technikach syntezy powłok w środowisku plazmy reaktywnej (technologie PA PVD) źródłem pierwiastka metalicznego są elektrody metaliczne. W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań nad powłokami uzyskiwanymi w procesie PA PVD -Arc w którym zastosowano prekursor metaloorganiczny zawierający Al. Zastosowanie tego związku dało możliwości wytwarzania powłok węglikowych typu TiAlN 0 zmiennej zawartości Al. Szeroko przeprowadzone badania materiałowe powłok wykazują doskonałe właściwości tribo-korozyjne tych powłok w porównaniu do tradycyjnie wytwarzanych powłok monowarstwowych TiN, TiC. Analiza plazmy procesowej wykazuje istnienie linii atomowych wzbudzonego i zjonizowanego aluminium.

EN

At present in PAPVD technologies where syntheses proceed in plasma reactive environment, the metallic electrodes are source of metallic elements compound in coats. In this paper are present results of studies of coatings obtained in PAPVD-Arc method. In our case coatings were deposited by using a metalorganic precursor which contain an aluminum. An application of this compound make a possibility to deposition a carbide coats like TiAlN coats with variable concentration of Al compound. Material investigations of coats are widely realized, and show perfect tribo-corrosion features against the TiN and TiC monolayer coatings deposited in traditional way. The analyses of reaction plasma exhibits appearance of atomic lines from excitation and ionized aluminum ions.

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 26, nr 5
• Strony: 268--270
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Betiuk M.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej

autor

Dąbrowski M.

• Politechnika Krakowska

autor

Szudrowicz M.

• WITiPS

autor

Diduszko R.

• ITME

autor

Budryński K.

• Instytut Mechaniki Precyzyjnej

Bibliografia

• [1] M.W, A.Biedunkiewicz, W.Jasiński, S.Lenart; Mat.Konf. „Nowoczesne Technologie w Inżynierii Powierzchnii” I Ogólnopolska Konferencja Naukowa Łódź (1994) s. 119-123.
• [2] A.Biedunkiewicz; „Charakterystyka powłok TiC wytworzonych techniką zol-żel na ceramice narzędziowej”, Inżynieria Materiałowa, 5/2002 str.364-367.
• [3] J.R. Sobiecki, T.Wierzchoń, K.J.Kurzydłowski; Zastosowanie związków metaloorganicznych w tworzeniu powłok metodą PAMOCVD, Mat. 13 Int. Summer School "Modern Plasma Surface Technology" (ed. W.Precht), Wydawnictwo Politechniki Koszalińskiej, 2002.
• [4] J.R.Sobiecki, T.Wierzchoń; Use of metallorganic compounds in the production of coatings by the PAMO CVD method, Acta Agrophysica, Advances in plasma chemistry (ed. J.JaroszyńskaWolińska, M.Wroński), 80, 2002.
• [5] Wierzchoń, J.R.Sobiecki, P.Mańkowski, K.Rożniatowski; Composite nitrided + Ti(N,C,O) type layers produced by PAMOCVD processes, Chemical Vapor Deposition XVI and EUROCVD14, (eds. M.D.Allendorf, F.Maury, F.Teyssandier), 1 The LElectrochemical Society, INC PV 2003-8, 2003.
• [6] J.R.Sobiecki, T.Wierzchoń; Chromium and zirconium type layers produced from metalorganic compunds using the glow discharge conditions, Chemical Vapor deposition XVI and EUROCVD14, (eds. M.D.Allendorf, F.Maury, F.Teyssandier), The Electrochemical Society, INC PV 2003-08, 2003.
• [7] L.Swadźba, A.Maciejny, B.Mendala, G.Moskal, G.Jarczyk; “Odporność na cykliczne utlenianie pokryć dyfuzyjnych Al.-Si naniesionych na stop TiAlCrNb metodą Arc-PVD” Inżynieria Materiałowa, 5/2002 str.395-400.
• [8] J.H.Wijngaard; „PVD coatings in high speed cutting operations (HSC)”, Balzers Limited, Liechtenstein.
• [9] J.Walkowicz; Studia i Rozprawy: „Fizykochemiczna struktura plazmy a skład chemiczny i fazowy warstw wytwarzanych technikami plazmowej inżynierii powierzchni”, Radom 2003.