Otrzymywanie warstw tlenku itru z tetrametyloheptanodionianu itru (Y(tmhd)3)

• Autorzy: Andreasik P. , Kwatera A. , Sawka A. , Juda W.

Warianty tytułu

EN

Synthesis of yttrim oxide layers using yttrium tris(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate)

• Konferencja: Ogólnopolska Konferencja Naukowa "Obróbka Powierzchniowa" (VI; 20-23.09.2005; Kule k. Częstochowy, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Warstwy tlenku itru syntezowano na wewnętrznych powierzchniach rurek ze szkła kwarcowego z użyciem Y(tmhd)3. Celem tych badań było określenie warunków procesu syntezy tych warstw (temperatura parowania, stężenie reagentów, rodzaj i wielkość przepływu gazów nośnych, temperatura podłoża). Otrzymane warstwy tlenku ceru były przeźroczyste, gładkie i dobrze przyczepne do podłoża. Praca ta ma związek z prowadzonymi badaniami nad opracowaniem optymalnych warunków syntezy warstw YBa2Cu307-x. Wyniki tych badań mogą być również wykorzystane do otrzymywania warstw Ce02 dotowanych Zr02i Y203.

EN

Yttrium oxide layers were synthesized on the inner surfaces of quartz glass tubes using Y (tmbd)3. Determination of the conditions of the synthesis process (the evaporation temperature, the concentration of reagents, kind and magnitude of carrier gases flow, the substrate temperature) was the main aim of the research. The obtained layers were transparent, smooth and well adhered to the substrate. This work was connected to elaboration for the optimal conditions of synthesis of YBa2Cu307-x layers. Results of these investigations can be also applied for synthesis of Zr02 and yttrium doped Ce02 layers.

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Inżynieria Materiałowa
• Rocznik: 2005
• Tom: Vol. 26, nr 5
• Strony: 265--267
• Opis fizyczny: Bibliogr. 19 poz., rys.

Twórcy

autor

Andreasik P.

• Akademia Górniczo Hutnicza Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Ceramiki Specjalnej

autor

Kwatera A.

• Akademia Górniczo Hutnicza Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Ceramiki Specjalnej

autor

Sawka A.

• Akademia Górniczo Hutnicza Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Ceramiki Specjalnej

autor

Juda W.

• Akademia Górniczo Hutnicza Wydział Inżynierii Materiałowej i Ceramiki, Katedra Ceramiki Specjalnej

Bibliografia

• [1] Bonnet G., Lachkar M., Coulson J.C., Largin J.P.: Characterisation of thin solid films of rare earth oxides fomed by the metalorganic chemical vapour deposition technique for high temperature corrosion applications. Thin Solid Films, 261, 1995,31
• [2] Andreeva A.F., Sisonyuk A.G., Himich E.G: Phys Stat Sol A 1994; 145: 441-445.
• [3] Wang L., Li D.Y.:Effects of yttrium on microstructure, mechanical properties and high-temperature wear behavior of cast Stellite 6 alloy. Wear 255(2003), 535 – 544.
• [4] Ivanic R., Rehacek V., Novotny I., Breternitz V., Spiess L., Knedlik Ch., Tvarozek V.: Sputtered yttrium oxide thin films appropriate for electrochemical sensors. Vacuum 61(2001), 229 – 234.
• [5] Kalkur T.S., Kwor R.Y., Pazde C.E., Araujo: Thin Solid Films 170(1989)185.
• [6] Manchanda L., Gurvitch M.: Electron Devices Lett. EDL-9 (1988)180.
• [7] Horng R.H., Wuu D.S., Yu J.W., Kung C.Y.:Effects of rapid thermal process on structural and electrical characteristic of Y2O3 thin films by r.f.-magnetron sputtering. Thin Solid Films 289(1996)234 - 237.
• [8] Kang S.K., Ko D.H., Kim E.H., Cho M. H. Whang C.N.:Interfacial reaction in the thin films Y2O3 on chemically oxidized Si(100) substrate systems. Thin Solid Films 353(1999) 8- 11.
• [9] Paumier F., Gaboriaud R.J., Kaul A.R.: Yttruim oxide thin films: chemistry-stoichiometry-strain and microstructure. Crystal Engineering 5(2002), 169 – 175.
• [10] Paumier F., Gaboriaud R.J: Intefacial reactions of Y2O3 thin films deposited on Si(100). Thin Solid Films 441(2003), 307 – 310.
• [11] Choa M.-H., Kob D.-H., Jeonga K., Whangboa S.W., Whanga C.N., Choic S.C., Cho S.J.: Structural transition of crystalline Y2O3 film on Si(111) with substrate temperature. Thin Solid Films 349(1999), 266 – 269.
• [12] Singhal S.C.: Advances in solid oxide fuel cell technology. Solid State Ionics, 135, 2000, 305
• [13] Peng R., Xia Ch., Liu X., Peng D., Meng G.: Intermediate temperature SOFCs with thin Ce0,8Y0,2O1,9 films prepared by screen printing. Solid State Ionics, 152-153, 2002, 561
• [14] Kwatera A., Sawka A., Andreasik P.: Synteza warstw YBa2Cu3O7-x metodą MOCVD. 80, 2003, 777
• [15] Hitchman M.L., Shamlion S.H., Conderalli G.G., Rocabois F.Ch.: A study by FTIR and mass spectroscopy of the decomposition of precursors for the MOCVD of high temperature superconductors. J. of Alloys and Compounds, 251, 1997, 297
• [16] Chon K.S., Wang W. M.: Modelling of evaporation rates of cerium β-diketonate. Thermochimica Acta, 286, 1996, 75
• [17] Panson A. J., Charles R.G., Schmidt D.N.,. Schedon J.R, Machiko G.J., Braginski A. J.: Chemical vapour deposition of YBa2Cu3O7-x using metaloorganic chelate precursors. Appl. Phys. Lett., 53(18), 1988
• [18] Kwatera A.: Uniform Thin CVD Layers of High Density on the Inner Surface of Tube Shaped Substrates. Thin Solid Films, 204, 1991, 313
• [19] Kwatera A., Sawka A.: Preparation of highly transparent and uniform in thickness CVD layers of Si3N4 on dielectric substrates, Inżynieria Materiałowa 4, 2001, 521-523