Application of laser-plasma source with gas-puff target for calibration of EUV radiation detectors

• Autorzy: Mikołajczyk J. , Bielecki Z.

Warianty tytułu

PL

Zastosowanie źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową do testowania detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu

• Konferencja: 31 International Conference and Exhibition IMAPS Poland 2007 ; 23-26.09.2007 ; Rzeszów - Krasiczyn, Poland
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

The paper presents a laboratory setup with a procedure used for measurements of detector responsivity. The responsivity is specified in the range of extreme ultraviolet radiation (wavelength of 13.5 nm). This spectrum range is an important factor determining the next step of nanolithography. The main issue of this technology is an absolute measurement of radiation energy. The constructed laser-plasma source with a metrology chamber gave opportunity to design a special calibration procedure of EUV detectors used in energy meters. The described laboratory setup is characterized by a good reliability, low costs of operation, and a short time of measurement procedures.

PL

Przedstawiono stanowisko laboratoryjne do pomiarów czułości widmowej detektorów promieniowania zakresu skrajnego nadfioletu (λ= 13,5 nm). Promieniowanie to jest szczególnie istotne, gdyż stanowi perspektywę dalszego rozwoju nanolitografii. Obecnie zasadniczym zagadnieniem tej technologii są bezwzględne pomiary energii promieniowania. Skonstruowanie w Instytucie Optoelektroniki WAT źródła laserowo-plazmowego z tarczą gazową dało możliwość przygotowania specjalnej procedury testującej. Opracowane na podstawie badań wstępnych stanowisko laboratoryjne charakteryzuje się dużą niezawodnością małymi kosztami eksploatacji oraz krótkim czasem trwania procedury pomiarowej detektorów promieniowania z zakresu skrajnego nadfioletu.

Słowa kluczowe

EN

EUV radiation; nanolithography; detectors calibration

PL

promieniowanie zakresu skrajnego nadfioletu; nanolitografia; kalibracja detektorów

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2007
• Tom: Vol. 48, nr 12
• Strony: 51--54
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., wykr.

Twórcy

autor

Mikołajczyk J.

autor

Bielecki Z.

• Institute of Optoelectronics, Military University of Technology, Warsaw

Bibliografia

• [1] Lawes R. A.: Future trends in high-resolution lithography. Applied Surface Science, 154-155 (2000), 519-526.
• [2] http://www.sematech.org/resources/litho/meetings/euvl/20030223a/P06-Scholze-High%20accuracy%20detector%20calibration%20at%20PTB.pdf
• [3] Scholze F., Tümmler J., Ulm G.: High-accuracy radiometry in the EUV range at the PTB soft x-ray beamline. Metrologia 40 (2003), 224-228.
• [4] Stuik R., Scholze F., Tümmler J., Bijkerk F.: Absolute calibration of a multilayer-based XUV diagnostic. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A (2002), 305-316.
• [5] Wedowski M., Schlegel U., Underwood J. A., Gullikson E. M., Bajt S., Folta J. A., Kearney P. A., Montcalm C., Soufli R., Spiller E. A.: High-Precision Reflectometry of Multilayer Coatings for Extreme Ultraviolet Lithography. http://www-als.lbl.gov/als/compendium/AbstractManager/uploads/99039.pdf.
• [6] http://physics.nist.gov/PhysRefData/ASD/lines_form.html
• [7] Rakowski R., Bartnik A., Fiedorowicz H., Jarocki R., Kostecki J., Mikołajczyk J., Szczurek M., Szczurek A.: Spectral and spatial measurements of a laser-produced plasma EUV source for 13.5 nm based on a double stream Xe/He gas puff target. Proc. SPIE, 5958 (2005), 5958W - (1-11).
• [8] Mikołajczyk J., Bielecki Z.: Laboratory setup for responsivity investigations of 13.5 nm wavelength detectors. Polish version, Metrology Congress, Krakow 2007 in print.
• [9] Mikołajczyk J., Bielecki Z., Wojtas J.: Testing system for extreme ultraviolet detectors. Proc. SPIE, 5948 (2005), 5948W - (1-9).
• [10] Cross-Calibration of Extreme Ultraviolet (EUV) Energy Sensors. International SEMATECH Technology Transfer, http://www.sematech.org/docubase/document/4498atr.pdf
• [11] Canfield L. R., Vest R., Woods T. N., Korde R.: Silicon photodiodes with integrated thin filters for selective bandpasses in the extreme ultraviolet. Proc. SPIE, 2282 (1994), 31-38.