Pomiary sondą Langmuira rozpylania magnetronowego przy zasilaniu impulsowym

• Autorzy: Brudnik A. , Czapla A. , Socha M. , Różycki M.

Warianty tytułu

EN

Langmuir probe diagnostics of pulsed magnetron sputtering

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zastosowanie do zasilania katody magnetronowej zasilaczy impulsowych ze zmiennym współczynnikiem wypełnienia impulsu wyjściowego powoduje, że parametry plazmy w czasie procesu ulegają zmianom, odzwierciedlając chwilowe wartości prądu katody. Do pomiaru parametrów plazmy przy zasilaniu impulsowym wykonano układ pomiarowy synchronizowany impulsami prądowymi w obwodzie katody. Uzyskano możliwość stabilnych pomiarów charakterystyki prądowo-napięciowej sondy Langmuira w celu uzyskania wartości parametrów plazmy.

EN

Application of PWM (pulse width modulation) power supply for magnetron sputtering, results in changing parameters of plasma reflecting present value of discharge current. Application of synchronisation system allowed to record stable current-voltage characteristic of Langmuir probe. Synchronisation pulse was set up by magnetron current signal.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie magnetronowe; diagnostyka plazmy; sonda Langmuira

EN

magnetron sputtering; plasma diagnostic; Langmuir probe

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2007
• Tom: Vol. 48, nr 10
• Strony: 29--30
• Opis fizyczny: Bibliogr. 2 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Brudnik A.

autor

Czapla A.

autor

Socha M.

autor

Różycki M.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Wydział EAI i E, Kraków

Bibliografia

• [1] Chen F. F.: Lectures Notes on Langmuire Probe Diagnostics. IEEE-ICOPS meeting, Korea, 2003.
• [2] Dora J.: Zasilacz rezonansowy. Urząd Patentowy RP, Patent nr 178285.