Wpływ procesów modyfikacji powierzchni na jej właściwości morfologiczne na przykładzie trawienia jonowego wybranych materiałów

• Autorzy: Kowalski Z. W.

Warianty tytułu

EN

The effect of surface modification processes on its morphological features on the example of ion etching of selected materials

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W wielu dziedzinach nauki i techniki wykorzystywane są różne procesy technologiczne do modyfikacji powierzchni materiałów (obróbka mechaniczna, trawienie chemiczne, trawienie jonowe, bombardowanie wiązką elektronów lub strumieniem fotonów, nanoszenie warstw, itp.), zarówno w skali mikro- jak i nanoskopowej. Właściwości morfologiczne powierzchni zależą od rodzaju stosowanego procesu technologicznego - stąd ich badanie jest jednym z ważniejszych zagadnień związanych z modyfikacją powierzchni ciała stałego. W niniejszej pracy przedstawiono wyniki badań podstawowych aspektów morfologii powierzchni wybranych materiałów modyfikowanych w procesie trawienia jonowego, przy użyciu prostopadłej i ukośnie padającej (Θ = 85° š 87°) wiązki jonów. W eksperymentach stosowano wiązki o średnicy: 12 cm i względnie małej energii 0,8 keV oraz równej około 1 mm i energii dochodzącej do 6 keV.

EN

In many areas of science and technology various processes are used for surface modification of materials (machining, chemical etching, ion etching, electron beam or photon flux bombardment, deposition of layers, etc.), both at the micro- and nanoscopic scale. Morphological properties of the surface depends on the type of process used - hence their study is one of the major issues relating to the modification of solid surfaces. This paper presents the results of studies of the basic aspects of the surface morphology of selected materials modified in the process of ion etching, using perpendicular and oblique (Θ = 85° š 87°) ion beam. In the experiments beams with a diameter of 12 cm and relatively low energy 0.8 keV and with a diameter equal to about 1 mm and power of up to 6 keV were used.

Słowa kluczowe

PL

morfologia powierzchni; wiązka jonów; wymiar fraktalny; topografia

EN

surface morphology; ion beam; fractal dimension; topography; roughness

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 11
• Strony: 79--81
• Opis fizyczny: Bibliogr. 15 poz., tab., wykr.

Twórcy

autor

Kowalski Z. W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Martan J., Kowalski Z. W.: Elektronika 6, 2005, 18.
• [2] Kowalski Z. W., Martan J.: Elektronika 48, 2007, 41.
• [3] Frost F., Fechner R., Ziberi B., Vollner J., Flamm D. and Schindler A.: Journal of Physics: Condensed Mater 21, 2009, 4026.
• [4] Medhekar N. V., Chan W. L., Shenoy V. B. and Chason E.: Journal of Physics: Condensed Matter 21, 2009, 4021.
• [5] Debabrata Ghose, Journal of Physics: Condensed Matter 21, 2009, 4001.
• [6] Cuerno R., Vazquez L., Gago R. and Castro M.: Journal of Physics Condensed Matter 21, 2009, 301.
• [7] Sikora B.: Rozprawa doktorska, Uniwersytet Medyczny Karola Marcinkowskiego w Poznaniu, 2005.
• [8] Kupiec K., Konieczka P., Namieśnik J.: Ecological Chemistry and Engineering S 2007, T. 14, S4, 217.
• [9] Radziejewska J., Kalita W., Nowicki B.: Przegląd Mechaniczny LXV, 2006, 17.
• [10] Paluszyński J., Słówko W.: Journal of Microscopy 233, Pt1, 2009, 10.
• [11] Marendziak A.: Rozprawa doktorska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2005.
• [12] Bałamucki J., Czarnecki P., Gotszalk T., Marendziak A., Rangelow I., Wilk J., Kowalski Z. W.: Physics and Chemistry of Solid State 7, 3, 2006, 577.
• [13] Kowalski Z. W., Wilk J., Martan J.: Vacuum 83, 2009, S208.
• [14] Wilk J.: Rozprawa doktorska. Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej. Wrocław 1997.
• [15] Kowalski Z. W., Wilk J.: Przegląd Elektrotechniczny 86, 2010, 36.