Dwie konstrukcje plazmowych źródeł jonów z parownikiem

• Autorzy: Turek M. , Droździel A. , Pyszniak K. , Prucnal S.

Warianty tytułu

EN

Two designs of plasma ion source with an internal evaporator

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule omówione są dwie konstrukcje źródeł jonowych: z anodą cylindryczną i katodą wnękową wykorzystujące parownik. Źródła te są szczególnie użyteczne do wytwarzania wiązek jonów pierwiastków występujących jako ciała stałe, dostarczając natężeń prądów jonowych rzędu 70 ... 100 µA (w wypadku Al, Bi, As, Sb), 25 µA (Eu) oraz 15 ... 30 µA (Fe, V, Cr oraz jony podwójne i molekularne). Przedstawiono zasadę działania obu źródeł zwracając uwagę na dzielące je różnice. Zaprezentowano wybrane wyniki eksperymentalne ilustrujące ogólne zasady rządzące zachowaniem omawianych źródeł jonów.

EN

The paper presents two constructions of ion sources with an evaportor: with an cyllindrical anode or an hollow cathode. The sources are especially suitable for ion production from solids, providing ion currents of 70...100 µA (Al, Bi, As, Sb etc.), 25 µA (Eu) and 15 ... 30 µA (Fe, V, Cr and molecular or doubly charged ions). The principle of operation is discussed taking into consideration the differences between the two designs. Some chosen experimental data is shown in order to illustrate the processes that occur in the ion sources.

Słowa kluczowe

PL

źródła jonów; pierwiastki metaliczne

EN

ion sources; metalic ions

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 11
• Strony: 60--64
• Opis fizyczny: Bibliogr. 20 poz., rys.

Twórcy

autor

Turek M.

autor

Droździel A.

autor

Pyszniak K.

autor

Prucnal S.

• Uniwersytet Marii Curie-Skłodowskiej w Lublinie, Instytut Fizyki

Bibliografia

• [1] Facsko S., Dekorsy T., Koerdt C. et al. Science 285 (1999) 1551.
• [2] Meldrum A., Boatner L. A., White C. W. Nuc. Inst. Meth. Phys. Res. B 178 (2001) 7.
• [3] Prucnal S., Turek M., Drozdziel A. et al. Appl. Phys. B 101 (2010) 315.
• [4] Vijendran S., Lin S. D., Jones G. A. C. Microelectronic Engineering 73-74 (2004) 111.
• [5] Overberg M. E., Gila B. P., Thaler G. T. et al. J. Vac. Sci. Technol. B 20 (2002) 969.
• [6] Kanjilal A., Rebohle L., Prucnal S. et al. Phys. Rev. B 80 (2009) 241313(R).
• [7] Wolf B. (red.), Handbook of lon sources, CRC Press Inc., 1995.
• [8] Waldmann H., Martin B., Nucl. Instrum. and Meth. B 98 (1995) 532.
• [9] Feng Y. C., Wong S. P., Nucl. Instrum. and Meth. B149 (1999) 195.
• [10] Southon J. R., Roberts M. L., Nucl. Instrum. and Meth. B 172 (2000) 257.
• [11] Meldizon J., Drozdziel A., et al. Vacuum 70 (2003) 447.
• [12] Rosiński M., Badziak J., Boody F. P. et al. Vacuum 78 (2005) 435.
• [13] Ganetsos Th., Mair G. L. R. et al. Physica B 340-342 (2003) 1166.
• [14] Turek M., Prucnal S., Drozdziel A., Pyszniak K. Rev. Sci. Instrum. 80 (2009) 043304.
• [15] Nielsen K. O. Nucl. Instr. Meth. B1 (1957) 289.
• [16] Brown I. G., Galvin J. E. et al. Rev. Sci. Instrum. 57 (1986) 1069.
• [17] Turek M., Drozdziel A., Pyszniak K. et al. Przegląd Elektrotechniczny 86 (2010) 193.
• [18] Turek M., Prucnal S. et al. Nucl. Instrum. and Meth B (doi:101016/j.nimb.2011.01.133).
• [19] Oks E. M., Yushkov G. Yu. Russian Physics Journal 3Z (1994) 222.
• [20] Freund R. S., Wetzel R. C., Shul R. J., Hayes T. R. Phys. Rev A41 (1990) 3575.