Właściwości optyczne i strukturalne warstw elektrochromowych WO₃

• Autorzy: Marszałek K. , Jankowski H. , Swatowska B. , Perzanowski M. , Stapiński T.

Warianty tytułu

EN

Optical and structural properties of the electrochromic WO₃ thin films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Warstwy elektrochromowe są przedmiotem zainteresowania ze względu na szeroką gamę potencjalnych zastosowań w elektronice, architekturze oraz szeregu dziedzin, gdzie stosuje się filtrację promieniowania elektromagnetycznego w obszarze widzialnym. W pracy opisano technologię nanoszenia warstw WO₃ metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego przy częstotliwości 13,56 MHz. Przedstawiono ich właściwości optyczne i strukturalne, a w szczególności zmiany tych własności w wyniku wygrzewania warstw amorficznych.

EN

Electrochromic thin films are intensively investigated due to their potential application in electronics, architecture and in all fields where filtering of electromagnetic radiation in the visible range is important. A reactive magnetron deposition with a RF of 13.56 MHz is described. Optical and structural properties of WO ₃ thin films are described for as deposited and annealed films.

Słowa kluczowe

PL

warstwy elektrochromowe; WO3

EN

WO3; electrochromic effect; thin films

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 11
• Strony: 39--40
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., tab., wykr., il.

Twórcy

autor

Marszałek K.

autor

Jankowski H.

autor

Swatowska B.

autor

Perzanowski M.

autor

Stapiński T.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Katedra Elektroniki, Kraków

Bibliografia

• [1] Xiong S., J. Maa, X. Lu: Solar Energy Materials & Solar Cells, 93, (2009) 2113-2117.
• [2] Kraft A., M. Rottmann: Solar Energy Materials & Solar Cells, 93, (2009), 2088-2092.
• [3] Granquist C. G.: Handbook of Inorganic Eletrochromic Materials Elsevier, Amsterdam (1995).
• [4] Granquist C. G.: Nature Materials, Vol. 5, (2006), 89-90.
• [5] Chao-Te Lee, Po-Kai Chiu, C. N. Hisa i in.: Advanced Materials Research, Vol. 123-125, (2010), 983-986.
• [6] Jankowski H., T. Kenig, L. Maksymowicz, T. Pisarkiewicz, M. Warzecha: Elektronika: konstrukcje, technologie i zastosowania, 10, (2007), ss. 32-34.
• [7] Posadowski W. M.: Thin Solid Films, 343-344, (1999) 85-89.
• [8] Posadowski W. M., A. Wiatrowski, J. Dora, Z. J. Radzimski: Thin Solid Films, 516, (2008), 4478-4482.
• [9] Shinoki F., A. Itoh: Journal of Applied Physics, 46, (1975), 3381.
• [10] Granqvist C. G.: 50th Annual Technical Conference Proceedings, Society of Vacuum Coaters, Albuquerque, NM, USA, 2007, 561-567.
• [11] Stankova M., X. Vilanovaa, J. Calderera, i in.: Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, Vol 7, (2005), 1237-1242.
• [12] Hutchins M. G., O. Abu-Alkhair, M. M. El-Nahass, K. Abd El-Hadyd: Materials Chemistry and Physics, 98, (2006), 401-405.
• [13] Azimirad R., O. Akhavan, A. Z. Moshfegh: Vacuum, 85, (2011), 810-819.