PL EN


Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników
Tytuł artykułu

Influence of substrate type on structure of C-Pd thin films

Identyfikatory
Warianty tytułu
PL
Wpływ rodzaju podłoża na strukturę cienkich warstw C-Pd
Języki publikacji
EN
Abstrakty
EN
C-Pd films were obtained by a two steps' PVD/CVD method (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Investigations of Pd nanograins and carbon matrix structure were performed. The films were formed on many types of substrates with various specific surface area (SSA). Pure Si wafers and Si wafers covered with DLC (Diamond Like Carbon) layer were used as substrates with a smooth surface, whereas Al₂ O₃ plates and AAO (Anodic Aluminium Oxide) membranes with pores of about 200 nm, were applied as substrates with a rough surface. The results of SEM (Scanning Electron Microscopy) and AFM (Atomic Force Microscopy) investigations of C-Pd films obtained on various substrates are presented. It is shown that SSA of substrates influences on topography, morphology and nanostructure of C-Pd films deposited on them.
PL
Warstwy C-Pd zostały wytworzone metodą dwustopniową PVD/CVD (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Przeprowadzono badania nanoziaren Pd i struktury matrycy węglowej. Warstwy osadzano na wielu rodzajach podłoży o zróżnicowanej powierzchni właściwej. Jako podłoża o gładkiej powierzchni zastosowano płytki Si i Si pokryte warstwą DLC (Diamond Like Carbon), zaś płytki Al₂ O₃ i membrany AAO (Anodic Aluminium Oxide) użyto jako podłoża o powierzchni chropowatej. W pracy zaprezentowano wyniki badań SEM (Scanning Electron Microscopy) i AFM (Atomic Force Microscopy) warstw C-Pd otrzymanych na różnych podłożach. Pokazano, że powierzchnia właściwa podłoży wpływa na topografię, morfologię i nanostrukturę warstw C-Pd osadzanych na nich.
Rocznik
Strony
61--64
Opis fizyczny
Bibliogr. 20 poz., il.
Twórcy
autor
autor
autor
autor
autor
  • Tele and Radio Research Institute, Warsaw
Bibliografia
  • [1] Luongo K., Sine A., Bhansali Sh.: Development of a Highly Sensitive Porous Si based Hydrogen Sensor using Pd Nano-Structures. Sensors and Actuators B 111-112, 2005, 125.
  • [2] Lu Y., Partridge Ch., Meyyappan M., Li J.: A Carbon Nanotube Seneor Array for Sensitive Gas Discrimination Using Principal Component Analysis. Journal of Electroanalitycal Chemistry 593, 2006, 105.
  • [3] Star A., Joshi V., Skarupo S., i in.: Gas Sensor Array Based on Metal-Decorated Carbon Nanotubes. J. Phys. Chem. B 110, 2006, 21014.
  • [4] Jewell L. L., Davis B. H.: Review of absorption and adsorption in the hydrogen-palladium system. Applied Catalysis A 310, 2006, 1.
  • [5] Sachs C., Pundt A., Kirchheim R. i in.: Solubility of hydrogen in single-sized palladium clusters. Phys Rev B 64, 2001, 075408.
  • [6] Lewis F. A.: The Palladium - Hydrogen System. 1967, Academic Press, London.
  • [7] Yuk R.: The Metal - Hydrogen System. 1993; 21, Springer Series in Material Science, Springer, Berlin.
  • [8] Eastman D. E., Cashion J. K., Switendick C. A.: Photoemission studies of Energy Levels in the Palladium - Hydrogen system. Phys. Rev. Lett. 27, 1971, 35.
  • [9] Conrad H., Ertl G., Latta E. E.: Adsorption of hydrogen on palladium single crystal surfaces. Surface Science 41, 1974, 435.
  • [10] Christofides C., Mandelis A. J.: Solid-state sensors for trace hydrogen gas detection. J. Appl. Phys. 68 (6), 1990; R1.
  • [11] Jorda-Beneyto M., Sua'rez-Garci'a F., Lozano-Castello D., i in.: Hydrogen storage on chemically activated carbons and carbon nanomaterials at high pressures. Carbon 45, 2007, 293.
  • [12] Cabria I., Lopez M. J., Alonso J. A.: The optimum average nanopore size for hydrogen storage in carbon nanoporous materials. Carbon 45, 2007, 2649.
  • [13] Campesi R., Cuevas R., Gadiou R. i inni. Hydrogen storage properties of Pd nanoparticle/carbon template composite, Carbon 46, 2008, 206.
  • [14] Czerwosz E., Kowalska E., Wronka H., Radomska J.: Patent notification 2008 nr P384 591.
  • [15] Czerwosz E., Diduszko R., Dłużewski R. i in.: Properties of Pd nanocrystals prepared by PVD method. Vacuum 82, 2008, 372.
  • [16] Beshkov G., Dimitov D. B., i in.: Properties of palladium silicide thin films obtained by vacuum rapid thermal annealing of r. f. sputtered Pd films on Si. Vacuum 51, 1998, 177.
  • [17] Joshi R. K., Yoshimura M. i in.: Synthesis of vertically aligned Pd2Si nanowires in microwave plasma enhanced chemical vapor deposition system. J. Phys. Chem. C 112, 2008, 13901.
  • [18] Żelazko J.: Materiały Elektroniczne 32, 2004, 36.
  • [19] Kozłowski M., Czerwosz E., Dłużewski P., i in.: Nanostructural C-Pd coatings obtained in 2-steps PVD/CVD technological process. JAMME 2, 2009, 37.
  • [20] unpublished information.
Typ dokumentu
Bibliografia
Identyfikator YADDA
bwmeta1.element.baztech-article-BWAN-0012-0014
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.