Właściwości elektryczne cienkich warstw ZrO₂ otrzymywanych metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Markowski J. , Nitsch K. , Wroński M.

Warianty tytułu

EN

Electrical properties of ZrO₂ thin films obtained by reactive magnetron sputtering

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Tlenek cyrkonu jest materiałem stosowanym na cienkie, twarde i przeźroczyste pokrycia mechaniczne, filtry optyczne, warstwy izolacyjne w mikroelektronice oraz ochronne pokrycia chemiczne. Występuje w trzech fazach polimorficznych: jednoskośnej, tetragonalnej i kubicznej. Właściwości elektryczne wybranych próbek cienkich warstw nanoszonych na podłoża szklane scharakteryzowano za pomocą metody spektroskopii impedancyjnej, w zależności od parametrów procesu technologicznego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Głównym celem przeprowadzonych badań był pomiar charakterystyk impedancyjnych struktur metal-tlenek cyrkonu-metal w szerokim zakresie częstotliwości. Wyniki pomiarów wykazały znaczny wpływ mikrostruktury tlenku cyrkonu i rezystancji szeregowej elektrod na przebieg charakterystyk impedancyjnych struktur kondensatorowych. W wyniku przeprowadzonej analizy z wykorzystaniem elektrycznego modelu równoważnego reprezentującego badane struktury wyznaczono efektywne przenikalności elektryczne wytworzonych warstw ZrO₂.

EN

Zirconium oxide is a great material used in production of thin hard and transparent mechanical coatings, optical filters, isolation layers in microelectronics and protective chemical coatings. It is found in three polymorphic phases: monoclinic, tetragonal and cubic. Electrical properties of chosen samples of ZrO₂ thin films sputtered onto glass substrates has been characterized with impedance spectroscopy in function of a reactive magnetron sputtering process parameters. Impedance spectroscopy has been used to determine impedance characteristics of metal-oxide-metal structures in wide frequency range. Results show significant influence of oxide microstructure and electrodes serial resistance on impedance spectra of structures. Effective dielectric permittivity of manufactured ZrO₂ layers has been determined using electric equivalent model representing measured structures.

Słowa kluczowe

PL

tlenek cyrkonu; magnetronowe nanoszenie cienkich warstw; spektroskopia impedancyjna

EN

zirconium oxide; thin films sputtering; impedance spectroscopy

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 9
• Strony: 86--89
• Opis fizyczny: Bibliogr. 2 poz., rys., tab.

Twórcy

autor

Markowski J.

autor

Nitsch K.

autor

Wroński M.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Wiatrowski A., Posadowski W. M., Dora J.: Impulsowe zasilanie układu magnetronowego - parametr technologiczny procesu rozypylania. Elektronika, nr 6, 2005, ss. 33-34.
• [2] Nitsch K.: Badanie mechanizmów transportu ładunków i polaryzacji elektrycznej w materiałach i systemach metodą spektroskopii impedancyjnej. Pomiary Automatyka Kontrola, nr 5bis 2006, ss. 9-16.