Modelowanie numeryczne rozpływu elektronów w skaningowym mikroskopie elektronowym o zmiennym ciśnieniu

• Autorzy: Krysztof M. , Słówko W.

Warianty tytułu

EN

Numerical modelling of electron flow in the Variable Pressure SEM

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Prezentowana jest metoda numeryczna Monte Carlo umożliwiająca symulacje ruchu elektronów i jonów w zakresie ciśnień gazu charakterystycznych dla skaningowej mikroskopii elektronowej o zmiennym ciśnieniu (VP SEM), tj. od wysokiej próżni do ciśnień przekraczających 10 hPa. Oprogramowanie wykorzystuje metodę Monte Carlo do modelowania zjawisk towarzyszących zderzeniom elektronów w gazie i komercyjny pakiet SIMlON 3D v.7.0 do wyznaczania torów elektronów między zderzeniami. Przedstawiono wyniki symulacji przepływu elektronów w obszarze wejściowym detektora elektronów wtórnych do VP SEM, obejmujące również wzmocnienie gazowe sygnału i towarzyszące mu szumy.

EN

Authors present a method for computer simulations of electron and ion flow in various gas conditions characteristic for the Variable Pressure SEM, i.e. from high vacuum to pressures exceeding 10 hPa. It combines commercially available packet SIMION 3D v.7.0 destined for tracing trajectories of charged particles in electric and magnetic fields, and a Monte Carlo program modeling phenomena accompanying electron collisions with gas molecules. As an example, results of simulations of the electron flow in an input region of the secondary electron detector for the VP SEM, including gas amplifications and noise to signal ratios have been presented.

Słowa kluczowe

PL

symulacje Monte Carlo; VP SEM; detekcja elektronów wtórnych

EN

Monte Carlo simulation; variable pressure scanning electron microscopy (VP SEM); secondary electron detection

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 9
• Strony: 55--58
• Opis fizyczny: Bibliogr. 9 poz., rys.

Twórcy

autor

Krysztof M.

autor

Słówko W.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Danilatos G. D.: Foundations of ESEM. Advances in Electronics and Electron Physics 71 (1988) 109-250.
• [2] Krysztof M., Słówko W.: Modelowanie numeryczne przepływu elektronów w warunkach niskiej próżni, Elektronika 10 (2007) 43-44.
• [3] Rochlin G. N.: Gazorazrjadnye istočniki sveta, Energija, Moskva 1966.
• [4] Mitchner M., Kruger Ch. H.: Partially lonized Gases, J. Wiley and Sons, New York London, 1973.
• [5] Mayol R., Salvat F.: Total and transport cross sections for elastic scattering of electrons by atoms. Atomic Data and Nuclear Data Tables 65 (1997) 55-154.
• [6] Hosaka K., Tawara H.: Secondary electron emission yields from clean Cu surfaces under low-energy singly and doubly charged ion impact. Physica Scripta TIB (1999) 238-239.
• [7] Slówko W.: New system for secondary electron detection in variable pressure SEM. Journal of Microscopy 224, (2006) 97-99.
• [8] Fletcher A. L., Thiel B. L., Donald A. M.: Amplification measurements of alternative imaging gases in environmental SEM. J. Phys. D: Appl. Phys. 30, (1997) 2249-2257.
• [9] Pimblott S. M., LaVerne J. A., Mozumder A.: Monte Carlo Simulation of Range and Energy Deposition by Electrons in Gaseous and Liquid Water. J. Phys. Chem. 100, (1996) 8595-8606.