Kontrola temperatury powierzchni próbki w procesie RF PECVD przy użyciu kamery termowizyjnej

• Autorzy: Dudek M. , Więcek M.

Warianty tytułu

EN

Surface temperature of sample controlling by infrared camera during RF PECVD process

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Interakcja pomiędzy plazmą a podłożem jest jednym z najważniejszych czynników determinujących zastosowanie niskotemperaturowej, niskociśnieniowej plazmy w dziedzinach takich jak trawienie, wytwarzanie cienkich warstw oraz modyfikacja powierzchni. W tym procesie, w szczególności podczas osadzania warstw węglowych dominującą rolę odgrywają termiczne oraz energetyczne warunki na powierzchni próbki. W prezentowanej pracy, analizowaliśmy przy użyciu kamery termowizyjnej, wpływ bombardowania jonów podczas procesu plazmochemicznego na rozkład temperatury na powierzchni śruby ortopedycznej.

EN

Plasma-surface interactions are of great importance in large variety of application of low-temperature, low-pressure plasmas in such fields as etching, thin film deposition and surface modification. In these processes, in particular of deposition of carbon films, the thermal and energetic conditions at the substrate surface play a dominant role. In the presented work we study using the infrared technique the effect of ion bombardment during the radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition (RF PECVD) process by temperature distribution monitoring on the cannulated screw.

Słowa kluczowe

PL

RF PECVD; temperatura powierzchni; kamera termowizyjna

EN

RF PECVD; surface temperature; infrared camera

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 9
• Strony: 37--39
• Opis fizyczny: Bibliogr. 16 poz., rys.

Twórcy

autor

Dudek M.

autor

Więcek M.

• Politechnika Łódzka, Instytut Inżynierii Materiałowej

Bibliografia

• [1] Mitura S., Klimek L., Haś Z., Etching and deposition in RF CH4 plasma, Thin Solid Films, 147 (1987) 83-92.
• [2] Lee Y. H., Bachmann K. J., Glass J. T, LeGrice Y. M., Nemanich R. J., J. Appl. Phys. 57 (18) (1990) 1916-1918.
• [3] Mitura S., Znaczenie elektronów w procesie niskociśnieniowej syntezie diamentu. Zeszyt. Nauk. Politechniki Łódzkiej, 666, 1992.
• [4] Morshed M. M., Cameron D. C., McNamara B. P., Hashmi M. S. J., Pre-treatment of substrates for improved adhesion of diamond-like carbon films on surgically implantable metals deposited by saddle field neutral beam source, Surface and Coatings technology 174-175 (2003) 579-583.
• [5] Niedzielski P., Warstwy węglowe na narzędziach skrawających, rozprawa habilitacyjna, Wydawnictwo Politechniki Łódzkiej, Łódź 2005.
• [6] Mitura S., Nucleation of diamond powder particles in an RF methane plasma, Journal of Crystal Growth 80 (1987) 417-424.
• [7] Bubenzer B., Dischler B., Brandt G., Koidl P., RF plasma deposited amorphous hydrogenated hard carbon thin films: Preparation, properties, and applications, J. Appl. Phys. 54 (1983) 4590-4595.
• [8] von Keudell A., Surface processes during thin-film growth, Plasma Sources Sci. Technol. 9 (2000) 455-467.
• [9] Meyerson B., Smith F., Electrical and optical properties of hydrogenated amorphous carbon films, Journal of Non-Crystalline Solids 35/36 (1979) 435-440.
• [10] Grill A., Patel V., Diamondlike Carbon Deposited by DC PACVD, Diamond films and technology 1 (1992) 219-233.
• [11] Has Z., Mitura S., Ciapa M., Szmidt J., Electrical properties of thin carbon films obtained by R. F. methane decomposition on an R. F. - powered negatively self-biased electrode, Thin Solid Films 136 (1986) 161-166.
• [12] Mitura S., Has Z., Gorokhovsky V. I., System for depositing hard diamond-like films onto complex-shaped machine elements in an r. f. arc plasma, Surf. Coat. Technol. 47 (1991) 106-112.
• [13] Woodworth J. R., Riley M. E., Meister D. C., Aragon B. P., Le M. S., Sawin H. H., Ion energy and angular distributions in inductively coupled radio frequency discharges in argon, J Appl. Phys. 80 (1996) 1304-1311.
• [14] Sun Y., Bell T., Dry sliding wear resistance of low temperature plasma carburised austenitic stainless steel, Wear 253 (2002) 689-693.
• [15] Tsujikawa M., Yoshida D., Yamauchi N., Ueda N., Sone T., Tanaka S., Surface material design of 316 stainless steel by combination of low temperature carburizing and nitriding, Surface & Coatings Technology 200 (2005) 507-511.
• [16] Sun Y., Kinetics of low temperature plasma carburizing of austenitic stainless steels Journal of Materials Processing Technology 168 (2005) 189-194.