Wytwarzanie warstw wieloskładnikowych metodą rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Adamiak B. , Domaradzki J. , Kaczmarek D. , Mazur M. , Wojcieszak D. , Szatkowski A. , Lis M. , Kurnatowska M. , Kępiński L. , Mazur P.

Warianty tytułu

EN

Deposition of multicomponent thin films by magnetron sputtering method

• Konferencja: Konferencja przemysłowo-naukowa : Powłoki wielofunkcyjne(1 ; 11-14.10.2012 ; Świeradów Zdrój, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedyskutowano sposoby wytwarzania warstw wieloskładnikowych z zastosowaniem metody rozpylania magnetronowego przykładzie cienkich warstw Ti-Cu. Tytan oraz miedź wybrano ze względu na całkowicie różne mechaniczne i termiczne właściwości tych materiałów. Warstwy wytworzono z zastosowaniem targetów stopowych oraz proszkowych o odpowiednio dobranych proporcjach składników. Na podstawie badań składu materiałowego stwierdzono znacznie większą zawartość miedzi w wytworzonych warstwach w porównaniu z wyjściowym składem rozpylanych targetów.

EN

In this paper various methods of deposition of multicomponent films by magnetron sputtering method have been discussed on the example of Ti-Cu thin films. Titanium and copper were chosen due to different (mechanical and thermal) properties of these materials. Thin films were deposited using alloy and powder targets with selected component ratio. Based on measurements of material composition it was found, that the amount of copper in manufactured thin films is much greater as compared to initial composition of sputtered targets in both cases.

Słowa kluczowe

PL

cienkie warstwy wieloskładnikowe; wielotargetowe stanowisko do rozpylania magnetronowego; Ti-Cu; target stopowy; target proszkowy; metoda SPS

EN

multicomponent thin films; multitarget sputtering; Ti-Cu; powder target; alloy target; SPS method

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2013
• Tom: Vol. 54, nr 1
• Strony: 7--9
• Opis fizyczny: Bibliogr. 11 poz., il., tab., wykr.

Twórcy

autor

Adamiak B.

• Zakład Produkcyjny "BOHAMET" Ciele, ul. Toruńska 2

autor

Domaradzki J.

• Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej

autor

Kaczmarek D.

• Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej

autor

Mazur M.

• Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej

autor

Wojcieszak D.

• Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki Politechniki Wrocławskiej

autor

Szatkowski A.

• Zakład Inżynierii Materiałowej i Metalurgii Proszków, Instytut Metali Nieżelaznych, Gliwice

autor

Lis M.

• Zakład Inżynierii Materiałowej i Metalurgii Proszków, Instytut Metali Nieżelaznych, Gliwice

autor

Kurnatowska M.

• Oddział Chemii Nanomateriałów i Katalizy, Instytut Niskich Temperatur i Badań Strukturalnych im. Włodzimierza Trzebiatowskiego we Wrocławiu

autor

Kępiński L.

• Oddział Chemii Nanomateriałów i Katalizy, Instytut Niskich Temperatur i Badań Strukturalnych im. Włodzimierza Trzebiatowskiego we Wrocławiu

autor

Mazur P.

• Uniwersytet Wrocławski, Instytut fizyki Doświadczalnej

Bibliografia

• [1] Posadowski W. M.: Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, vol. 343-344 (1999), s. 85-89.
• [2] Musil J., Baroch P., Vlcek J., Nam K. H., Han J. G.: Reactive magnetron sputtering of thin films: present and trends, Thin Solid Films, vol. 475 (2005), s. 208-218.
• [3] Kaczmarek D.: Modyfikacja wybranych właściwości cienkich warstw Ti02, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2008.
• [4] Murray J.: Bull Alloy Phase Diagrams 4 (1) (1983), s. 81-95.
• [5] Guo С., Zhou J., Yu Y., Wang L., Zhou H., Chen J.: Microstructure and tribological properties of Ti-Cu intermetallic compound coating, Materials and Design (2011), doi:10.1016/j.matdes. 2011.10.033.
• [6] Sharma G. Sharma V., Mishra M. C., Dhaka M. S., Sharma B. K.: Electron momentum density distribution in TiCu, Intermetallics 19 (2011), s. 666-670.
• [7] Adamiak В., Kaczmarek D., Domaradzki J., Wojcieszak D.: Sposób wytwarzania warstw gradientowych metodą rozpylania magnetronowego, I Konferencja Przemysłowo-Naukowa „Powłoki Wielofunkcyjne”, Świeradów Zdrój, 11-14.10.2012, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej (2012), s. 7-15.
• [8] Massalski Т. В.: Binary Alloy Phase Diagrams, Secondo Edition, William W. Scott, Jr., 1990, USA.
• [9] Dora J.: Polski patent nr PL 178285.
• [10] Domaradzki J.: Zgłoszenie patentowe nr PL 396389.
• [11] Kaczmarek D.: Metoda trójwymiarowej rekonstrukcji powierzchni próbki w SEM przy użyciu sygnału EWR, Elektronika, vol. 39, nr 9 (1998), s. 6-8.