Wyznaczanie faz powstających w trakcie procesów technologicznych nanoszenia warstw Ti-Si-C na szafir

• Autorzy: Ławniczak-Jabłońska K. , Klepka M. T. , Wolska A. , Dynowska E. , Borysiewicz M.

Warianty tytułu

EN

Estimation of phases formed during technological processes of Ti-Si-C layers growth on the sapphire substrate

• Konferencja: Krajowa Konferencja Elektroniki. 10 ; 05-09.06.2011 ; Darłówko Wschodnie, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Ze względu na swoje wyjątkowe właściwości fizyczne, takie jak odporność na działanie wysokiej temperatury i stabilność chemiczną oraz wysokie przewodnictwo elektryczne i cieplne, potrójne związki należące do tzw. grupy faz MAX, a w szczególności faza Ti₃SiC₂, są obiecujące do zastosowań w metalizacjach do przyrządów półprzewodnikowych na bazie azotków grupy III. Większość prac dotycząca wytwarzania związków MAX obejmuje syntezę wysokotemperaturową kryształów objętościowych z proszków. Stosunkowo niedawno pojawiły się doniesienia o osadzaniu cienkich warstw faz MAX metodami PVD, w szczególności na drodze magnetronowego rozpylania katodowego. W prezentowanej pracy przedstawiono wyniki badań nad wpływem zawartości węgla w warstwie buforowej TiC na strukturę krystaliczną osadzanej na niej warstwy Ti-Si-C dla warstw otrzymywanych techniką magnetronowego rozpylania katodowego z targelów Ti, C oraz Ti-Si-C. Badania prowadzone były z wykorzystaniem techniki absorpcji promieniowania synchrotronowego (XAS) oraz dyfrakcji promieniowania rentgenowskiego (XRD).

EN

Due to the unique combination of metallic electro-thermal conductivity and resistance to oxidation and thermal stability, the ternary compounds belonging to MAX phases, in particular Ti₃SiC₂, phase are promising as the materials potentially applicable for the metallisations in electronic devices based on the semiconductors III-N. The most of the paper devoted to producing MAX compounds is concerning on the synthesis of bulk compounds from powders. Only recently have been reported on thin layers growth of the MAX phases applying PVD method in particular by means of high-temperature magnetron sputtering. In the presented paper the results of studies of the influence of C contents in the buffer layer of TiC on the crystal structure of Ti-Si-C layer grown at this buffer are reported. The studies were performed for layers grown by the high-temperature magnetron sputtering from Ti, C and Ti-Si-C targets. The characterization of layers was done by X-ray absorption (XAS) and X-ray diffraction methods (XRD).

Słowa kluczowe

PL

fazy MAX; Ti3SiC2; metalizacja; rozpylanie katodowe; XAS; XRD

EN

MAX pheses; Ti3SiC2; metallization; magnetron sputtering; XAS; XRD

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 9
• Strony: 78--81
• Opis fizyczny: Bibliogr. 7 poz., wykr.

Twórcy

autor

Ławniczak-Jabłońska K.

autor

Klepka M. T.

autor

Wolska A.

autor

Dynowska E.

autor

Borysiewicz M.

• Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk, Warszawa

Bibliografia

• [1] Palmquist J.-P., et al.: Phys. Rev. B 70, 165401, 2004.
• [2] Eklund P. et al.: J. Vac. Sci. Technol. A 25, 1381, 2007.
• [3] Högberg H. et al.: Surface & Coatings Technology 193, 6, 2005.
• [4] Eklund P.: Surf. Eng. 23, 406, 2007.
• [5] Demchenko I. N. et al.: Phys. Rev. B82, 075107, 2010.
• [6] Piskorska E. et.al.: Spectrochimica Acta B62, 461, 2007.
• [7] Lawniczak-Jablonska K. et al.: Phys. Status Solidi vol. 5, 62, 2011.