Diagnozowanie procesu reaktywnego rozpylenia

• Autorzy: Brudnik A.

Warianty tytułu

EN

Reactive sputtering diagnostics

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono zagadnienia związane z występowaniem niestabilności procesu reaktywnego rozpylania magnetronowego, spowodowanej zmianami szybkości rozpylania materiału tarczy katody pokrytego produktami reakcji z gazem reaktywnym.

EN

In the present work, the effect of target poisoning and plasma diagnostics signals were discussed.

Słowa kluczowe

PL

reaktywne rozpylanie magnetronowe; OES; diagnostyka plazmy

EN

reactive magnetron sputtering; OES; plasma processes diagnostics

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 5
• Strony: 132--134
• Opis fizyczny: Bibliogr. 19 poz.

Twórcy

autor

Brudnik A.

• Akademia Górniczo-Hutnicza, Katedra Elektroniki, Kraków

Bibliografia

• [1] Pisarkiewicz T.: Mikrosensory gazów. AGH Uczelniane Wydawnictwa Naukowo-Dydaktyczne, Kraków 2007.
• [2] Zakrzewska K.: Mixed oxides as gas sensors. Thin Solid Films, 391 (2001) 229-238.
• [3] Torbicz W., Pijanowska D.: Microsystems in Biochemical Diagnosis Biocybernetics and Biomedical Engineering, 27 (1/2) (2007) 33-43.
• [4] Rossnagel S. M.: Sputter deposition for semiconductor manufacturing. IBM Journal of Research & Development, 43 (1/2) (1999) 163-179.
• [5] Dumitru V., Morosanu C., Sandu V., Stoica A.: Optical and structural differences between RF and DC AlxNy magnetron sputtered films Thin Solid Films, 359 (2000) 17-20.
• [6] Mergel D., Buschendorf D.. Eggert S., Grammes R., Samset B.: Density and refractive index of TiO2 films prepared by reactive evaporation Thin Solid Films, 371 (2000) 218-224.
• [7] Dannenberg R., Greene P.: Reactive sputter deposition of titanium dioxide, Thin Solid Films, 360 (2000) 122-127.
• [8] Vergohl M., Malkomes N., Matthee T., Brauer G. G.: Real time control of reactive magnetron-sputter deposited optical filters by in situ spectrascopic ellipsometry. Thin Solid Films, 377-378 (2000) 43-47.
• [9] Rosnagel S. M., Cuomo J. J., Westwood W. D.: Handbook of plasma processing technology. Noyes Publication, Park Ridge, 1993.
• [10] Jonsson L. B., Nyberg T., Berg S.: Dynamic simulations of pulsed reactive sputtering processes. Vac. Sci. Technol., A18 (2) (2000) 503-508.
• [11] Han J.G.: Recent progress in thin film processing by magnetron sputtering with plasma diagnostics. J. Phys. D: Appl. Phys., 42 (2009) 043001 (16pp).
• [12] http://physics.nist.gov/PhysRefData/ASD/lines_form.html
• [13] Strite S., Morkoc H.: GaN, AIN and InN: a review. J. Vac., Sci. Technol., B 10 (1992) 1237-1261.
• [14] Gadenne M., Plon J., Gadene P.: Optical properties of AIN thin films correlated with sputtering conditions. Thin Solid Films, 333 (1998) 251-255.
• [15] Brudnik A., Czapla A., Kusior E.: Optical properties of AIN thin films obtained by reactive magnetron sputtering. Optica Applicata, XXXII (2002) 3, 227-232.
• [16] Brudnik A., Czapla A., Kusior E.; AIN thin films prepared by optical emission spectroscopy-controlled reactive sputtering. Thin Solid Films, 478 (2005) 67-71.
• [17] Zakrzewska K., Brudnik A., Radecka M., Posadowski W.: Reactively sputtered TiO2-x thin films with plasma-emission-controled departure from stoichiometry. Thin Solid Films, 343-344 (1999) 152-155.
• [18] Posadowski W. M., Wiatrowski A., Dora J., Radzimski Z. J.: Magnetron sputtering process control by medium-frequency power supply parameter. Thin Solid Films, 516 (14) (2008) 4478–4482.
• [19] Brudnik A., Czapla A., Posadowski W.: Studies of medium frequency high power density magnetron sputtering discharges. Vacuum, 82 (2008) 1124-1127.