Badania konduktywności zespolonej nanowarstw

• Autorzy: Krupka J. , Mączeński Z. , Baszun M.

Warianty tytułu

EN

Investigation of complex conductivity of nanolayers

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Badanie przewodnictwa bardzo cienkich warstw przewodzących (nanowarstw), niezbędne dla określenia zarówno ich właściwości aplikacyjnych, jak i dla poznania mechanizmów fizycznych decydujących o tej przewodności, wymaga podejścia odmiennego od metodyki badania konduktywności materiałów litych. Przedstawiono podstawowe trudności związane z badaniem konduktywności nanowarstw zarówno dla pomiarów DC, jak i w paśmie mikrofalowym. Przedstawiono rozwiązania sond pomiarowych do kontaktowego i bezkontaktowego pomiaru konduktywności oraz wyniki takich pomiarów dla wybranych nanowarstw. Stwierdzono zmienność konduktywności z częstotliwością co wiąże się z nieciągłością warstw i poprzez wpływ lokalnych pojemności, nadaje konduktywności charakter wielkości zespolonej.

EN

Investigation of the conductivity of very thin conductive layers (nanolayers), crucial for their applications and for analyzing the physical phenomena of their conductivity calls for quite a different approach than in the case of bulk materials. The main difficulties associated with these investigations for DC as well as for microwave frequency measurements have been presented. Methods and probes for contact and contact-less measurements and measurement results of selected nanolayers have been described. The dependence of conductivity vs. frequency was observed, most probably due to the local non-continuity of layers. Discontinuities, through the influence of local capacitances cause the conductivity to become a complex value.

Słowa kluczowe

PL

nanowarstwy przewodzące; rezystywność powierzchniowa; mikrofalowe pomiary rezystywności

EN

conductive nanolayers; surface resistivity; microwave resistivity measurements

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 49, nr 9
• Strony: 18--21
• Opis fizyczny: Bibliogr. 5 poz., il., rys., wykr.

Twórcy

autor

Krupka J.

autor

Mączeński Z.

autor

Baszun M.

• Politechnika Warszawska, Instytut Mikro- i Optoelektroniki

Bibliografia

• [1] Krupka J. i in.: Measurements of the surface resistance and conductivity of thin conductive films at frequency about 1 GHz employing dielectric resonator technique. Journal of European Ceramic Society, vol. 27, 2007, pp. 2823-2826.
• [2] Van der Pauw L.: A method of Measuring the Resistivity and Hali Coeficient on Lamellae of Arbitrary Shape. Philips Technical Review, vol. 20, No. 8, 1958/59, pp. 220-224.
• [3] Buchar P. i in.: Reflection from a gold sputtered thin layer. MIKON 2006 Proceedings, vol. 2, Cracow, May 22-26 2006, pp. 641-644.
• [4] Krupka J., Mazierska J.: Contact-less Measurements of resistivity of Semiconductor Wafers employing single-post and split-post dielectric resonator techniques. IEEE Trans. on IM, October 2007, pp. 1839-1844.
• [5] Krupka J.: Measurement of the Complex permittivity of metal nanoislands and the surface resistance of thin conducting films at microvawe frequencies. Measurements Science and Technology, vol. 19, 2008.