Pomiary pirometryczne w modelowaniu termicznym lampy halogenowej stosowanej w procesie RTP

• Autorzy: Warzecha M. , Jankowski H. , Maksymowicz L. , Pisarkiewicz T.

Warianty tytułu

EN

Pyrometric measurements in thermal modeling of an RTP halogen lamp

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W pracy przedstawiono wyniki pomiarów pirometrycznych i ich wykorzystanie w budowaniu termicznego modelu lampy halogenowej. Żarnik lampy halogenowej jest źródłem strumienia promieniowania termicznego wykorzystywanego jako czynnik grzewczy w procesie RTP (Rapid Thermal Processing). Bazując na klasycznym modelu promieniowania termicznego, autorzy podają sposób wyznaczenia nieznanych, zależnych od temperatury, współczynników materiałowych, niezbędnych do zbudowania modelu. Zastosowane w symulacjach wymuszenie napięciowe pozwoliło na weryfikację modelu w porównaniu z danymi uzyskanymi eksperymentalnie.

EN

In this paper the results of pyrometric measurements of a halogen lamp filament are presented. The measurements were applied for creating the thermal model of the lamp. The model is based on a classic Boltzmann radiation theory with conducting linear component. The use of supply voltage in the model equation allows to compare computed and measured data.

Słowa kluczowe

PL

lampa halogenowa; model termiczny; szybki proces termiczny

EN

halogen lamp; thermal model; rapid thermal processing; RTP

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2008
• Tom: Vol. 49, nr 6
• Strony: 201--202
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Warzecha M.

autor

Jankowski H.

autor

Maksymowicz L.

autor

Pisarkiewicz T.

• Akademia Górniczo-Hutnicza im. St. Staszica, Katedra Elektroniki, Kraków

Bibliografia

• [1] Jankowski H. i in.: A model for a device with radiation heat transfer for selenization of Cu/In metallic precursors in photovoltaic applications. Vacuum, 2004, vol. 75, pp. 79-83.
• [2] Vandenabeele P., Renken W.: Model based temperature control in RTP yielding ± 0.1 °C accuracy on a 1000 °C, 2 second spike anneal. MRS spring '98, RTP session.
• [3] Felice R.A.: Tungsten filament emissivity behavior. FAR Associates, 1532 Newport Drive, Macedonia.
• [4] Modest F.M.: Radiative Heat Transfer. Elsevier Sc., USA, 2003.