Wpływ struktury warstwy diamentowej na emisję elektronów z układu powłoka diamentowa/krzem

• Autorzy: Staryga E. , Fabisiak K. , Dłużniewski M. , Znamirowski Z.

Warianty tytułu

EN

The influence of diamond film structure on electron emission from diamond layer/silicon

• Konferencja: Konferencja Techniki Próżni. 9 ; Workshop on Field Emission from Carbonaceous Materials ; 6-9.06.2011; Cedzyna, Polska
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zbadano prądy emisji dla układów polikrystaliczna warstwa diamentowa/ krzem i domieszkowana polikrystaliczna warstwa diamentowa/krzem. Wyniki potwierdzają istnienie relacji pomiędzy strukturą warstw diamentowych i ich właściwościami emisyjnymi. Domieszka azotu wpływa na wzrost prądu emisji z badanych układów. Kształt charakterystyk prądowo-polowych dla domieszkowanych azotem warstw diamentowych może być interpretowany przy założeniu stochastycznego rozkładu rozmiaru promieni przewodzących kanałów, które tworzą centra emisji.

EN

The emission currents from polycrystalline diamond/silicon and nitrogen-doped polycrystalline diamond/silicon structures have been investigated. As expected, the results confirm the relation between the structure of diamond films and their emission properties. The nitrogen doping enhances significantly the electron emission from the heterostructures. The shape of current-voltage characteristics for nitrogen-doped polycrystalline films may be interpreted in terms of stochastic distribution of radius of conducting channels which form the emission centers.

Słowa kluczowe

PL

warstwy diamentowe; emisja elektronów

EN

diamond films; electron emission

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 8
• Strony: 21--23
• Opis fizyczny: Bibliogr. 13 poz., wykr.

Twórcy

autor

Staryga E.

autor

Fabisiak K.

autor

Dłużniewski M.

autor

Znamirowski Z.

• Politechnika Łódzka, Instytut Fizyki

Bibliografia

• [1] Koizumi S., Karno M., Sato Y., Oaki H., Inozuka T.: Growth and characterization of phosphorous doped {111} nomoepitaxial diamond thin films. Appl. Phys. Lett., 71, 1997, 1065-1067.
• [2] Ristein J.: Surface science of diamond: Familiar and amazing. Surface Science, 600, 2006, 3677-3689.
• [3] Forbes R.: Low-macroscopic-field emission from carbon films and other electrically nanostructured heterogeneous materials: hypotheses about emission mechanism. Solid State Electronics, 45, 2001, 779-808.
• [4] Li J. J., Zheng W. T., Gu C. Z., Jin Z. S., Gu G. R., Mei X. X., Mu Z. X., Dong C.: Field emission from nitrogen-implanted CVD diamond film grown on silicon wafer. Appl. Phys. A, 81, 2004, 357-361.
• [5] Zhao J. R, Chen Z. Y., Wang X., Shi T. S.: Electron field emission properties of as-deposited and nitrogen implanted tetrahedral amorphous carbon films. J. Non-Crystal. Solids, 291, 2001, 181-186.
• [6] Fabisiak K., Masierak W., Staryga E., Kozanecki M.: The diamond films and single diamond microcrystals studied by micro-Raman spectroscopy. Opt. Mater., 30, 2008, 763-766.
• [7] Xu N. S., Huq S. E.: Novel cold cathode materials and applications. Mater. Sci. Eng. R, 48, 2005, 47-189.
• [8] Staryga E., Jarzyńska D., Fabisiak K., Banaszak A.: Field emission from diamond and diamond-like carbon films. J. Superhard Mater., 29, 2007, 189-197.
• [9] Staryga E., Znamirowski Z., Fabisiak K.: Wpływ domieszkowania azotem warstw diamentowych na właściwości emisyjne układu DF/Si; Elektronika 1, 2009, 117-119.
• [10] Brodie I., Spindt C. A.: "Vacuum Microelectronics", Academic Press Inc., California, 1992.
• [11] Panwar O., Kumar S., Rajput S. S., Sharma R., Bahattacharaya R.: Dependence of field-emission threshold in diamond-like carbon films grown by various techniques. Vacuum, 72, 2004, 184-192.
• [12] Cheng H. F., Chen T. T., Tai Ch. H., Lin I. N.: Nanocarbonaceous materials synthesized by microwave CVD and their characteristics of electron field emission. Microelectronic Engineering, 66, 2003, 2-9.
• [13] Obraztsov A. N., Volkov A. P., Zakhidov AI. A., Lyashenko D. A., Petrushenko Yu. V., Satanovskaya O. P.: Field emission characteristics of nanostructured thin film carbon materials. Applied Surface Science, 215, 2003, 214-221.