Wytwarzanie submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania

• Autorzy: Ekielski M. , Juchniewicz M. , Pasternak I. , Piotrowska A.

Warianty tytułu

EN

Sub-micrometer pattern fabrication using nanoimprint lithography

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Praca prezentuje wyniki dotyczące wytwarzania submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania. Eksperyment przeprowadzono na 3" podłożach krzemowych oraz 5×5 mm podłożach kwarcowych. Zaprezentowano dwa warianty techniki nanostemplowania tj. termiczny i UV oraz omówiono podstawowe parametry charakteryzujące jakość odwzorowania.

EN

We report on submicrometer pattern fabrication using nanoimprint lithography. The experiments were performed on 3" silicon and 5×5 mm quartz substrates. We demonstrate two modes of nanoimprint lithography i.e. thermal and UV, and discuss the parameters determining the quality of pattern replication.

Słowa kluczowe

PL

nanostemplowanie; IPS; AFM

EN

nanoimprint lithography; IPS; AFM

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2010
• Tom: Vol. 51, nr 9
• Strony: 106--108
• Opis fizyczny: Bibliogr. 6 poz., il., wykr.

Twórcy

autor

Ekielski M.

autor

Juchniewicz M.

autor

Pasternak I.

autor

Piotrowska A.

• Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Chou S. Y., Krauss P. R., Renstrom P. J.: Applied Physics Letters, 1995, 67 pp. 3114-3116.
• [2] International Technology Roadmap for Semiconductors; www.itrs.net
• [3] Lindner P., Miihlberger M., Bergmair I., Schöftner R., Hingerl K., Schmid H., Kley E.-B.: The Journal of Vacuum Science and Technology, 2007, 25 pp. 2337-2340.
• [4] Belotti M., Torres J., Roy E., Pepin A., Gerace D., Andreani L. C., Galii M., Chen Y.: Microelectronic Engineering 83, 2006, pp. 1773-1777.
• [5] Choi Ch.-Gi, Kee Ch.-S., Schift H.: Current Applied Physics 6S1, 2006, e8-e11.
• [6] Beck M., Heidari B.: On Board Technology September 2006, pp. 52-54.