Analiza składu pierwiastkowego stopów lutowniczych metodą spektrometrii mas wyładowania jarzeniowego

• Autorzy: Kaczorek K. , Konarski P.

Warianty tytułu

EN

Element composition analysis of soldering alloys by Glow-Discharge Mass Spectrometry

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Zaprezentowano wyniki prac badawczych dotyczących zastosowania spektrometru mas wyładowania jarzeniowego GDMS (glow discharge mas spectrometer) typ SMWJ-01 do analizy składu pierwiastkowego stopów lutowniczych. Celem głównym pracy było wykonanie analizy pierwiastkowej lutowia ze szczególnym uwzględnieniem zawartości ołowiu. Zbadano lutowia typu Sn97C, Sn100C, Sn63Pb37. W artykule zaprezentowano również wyniki analiz lutowi zawierających lit. W zastosowanym spektrometrze GDMS proces analityczny oparty jest na zjawisku wyładowania jarzeniowego, które powoduje trawienie i jonizację badanego materiału. Napięcie przykładane do badanej próbki wynosi -2500 V. Gazem wyładowczym jest argon o ciśnieniu 1hPa. Jako analizator wykorzystywany jest kwadrupolowy filtr mas. Użyty do analiz spektrometr wyładowania jarzeniowego SMWJ-01, opracowany w Instytucie Tele- i Radiotechnicznym, przeznaczony jest do szybkiego i precyzyjnego określenia składu pierwiastkowego metali, stopów metali oraz izolatorów, może być również stosowany do analiz profilowych układów warstwowych.

EN

Results of glow discharge mass spectrometry (GDMS) analysis are presented. Analysed were solder materials: Sn97C, Sn100C, Sn63Pb37. The main aim was to find concentration of lead. Solders containing Li were analysed as well. Glow discharge occurs during the analysis. Argon ions of the glow discharge are etching the surface of the analysed sample. Sputtered material is ionized in glow discharge and the obtained ions are extracted into quadrupole mass analyzer. Glow discharge is generated using 2500 V DC and 1hPa of argon as a discharge gas. GDMS (type SMWJ-01) spectrometer allows to perform quick and quantitative analysis of metals and its' alloys as well as isolators. This analyzer can also be used for depth profile analysis of thin films and layered structures.

Słowa kluczowe

PL

spektrometria mas; wyładowanie jarzeniowe; analiza materiałów; analiza profilowa

EN

mass spectrometry; glow discharge; materials analysis; depth profile analysis

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 7
• Strony: 101--104
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Kaczorek K.

autor

Konarski P.

• Instytut Tele- i Radiotechniczny, Warszawa

Bibliografia

• [1] Dyrektywa RoHS (Restriction of use of certain Hazardous Substances) - Rozporządzenie Ministra Gospodarki i Pracy z dnia 6 października 2004 r. w sprawie szczegółowych wymagań dotyczących ograniczenia wykorzystywania w sprzęcie elektronicznym i elektrycznym niektórych substancji mogących negatywnie oddziaływać na środowisko (Dz. U. Nr 229, poz. 2310).
• [2] Konarski P., Kaczorek K., Ćwil M., Marks J.: Quadrupole-based glow discharge mass spectrometer: Design and results compared to secondary ion mass spectrometry analyses. Vacuum, vol. 81, 2007, pp. 1323-1327.
• [3] Kaczorek K., Konarski P., Marks J.: Spektrometr mas wyładowania jarzeniowego z analizatorem kwadrupolowym - budowa i parametry. Elektronika 8/2007 ss. 97-100.
• [4] Konarski P., Kaczorek K.: Analiza profilowa układów warstwowych metodą spektrometrii mas wyładowania jarzeniowego. Elektronika, 3/2008 ss. 73-75.