Właściwości cienkowarstwowych, przezroczystych półprzewodników o zadanym typie przewodnictwa elektrycznego do zastosowań w transparentnej elektronice

• Autorzy: Sieradzka K. , Mazur M. , Domaradzki J. , Kaczmarek D. , Prociów E. L. , Berlicki T.

Warianty tytułu

EN

Properties of thin-film, transparent semiconductors with a specified type of electrical conduction for applications in transparent electronics

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W niniejszej pracy przedstawiono możliwości wytwarzania nanokrystalicznych, przezroczystych cienkich warstw tlenków na bazie TiO₂ o właściwościach półprzewodnikowych. Tlenki wytwarzano za pomocą dwóch zmodyfikowanych metod rozpylania magnetronowego. Na podstawie pomiarów właściwości optycznych i elektrycznych pokazano, że uzyskanie tego typu materiałów jest trudne i wymaga kompromisu między jednocześnie dobrą przezroczystością, a dużym przewodnictwem elektrycznym. Stwierdzono, że domieszkowanie cienkich warstw TiO₂ stwarza możliwość wytwarzania półprzewodników o zarówno elektronowym, jak i dziurawym typie przewodnictwa elektrycznego.

EN

In this work the preparation of nanocrystalline, transparent and semiconducting thin films based on TiO₂ has been presented. The thin films of TOS oxides were deposited by using two different and modified magnetron sputtering methods. On the basis of opticat and electrical measurements it was shown that preparation of such materials is difficult and requires a suitable compromise between good optical and good electrical properties. It has been found that by doping of TiO₂ created a possibility to produce the oxide semiconductors both with electron and hole type of electrical conduction.

Słowa kluczowe

PL

rozpylanie magnetronowe; cienka warstwa; dwutlenek tytanu; przewodnictwo elektryczne; właściwości optyczne

EN

magnetron sputtering; thin film; titanium dioxide; electrical conduction; optical properties

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2012
• Tom: Vol. 53, nr 2
• Strony: 18--20
• Opis fizyczny: Bibliogr. 14 poz., tab., wykr.

Twórcy

autor

Sieradzka K.

autor

Mazur M.

autor

Domaradzki J.

autor

Kaczmarek D.

autor

Prociów E. L.

autor

Berlicki T.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Facchetti A., Marks T. J.: Transparent Electronies - From Synthesis to Applications. John Wiley & Sons Ltd., 2010, United Kingdom.
• [2] Wager J. F.: Transparent electronics: Schottky barrier and heterojunction considerations. Thin Solid Films. Vol. 516, 2008, pp. 1755-1764.
• [3] Hosono H.: Ionic amorphous oxide semiconductors. Material design, carrier transport and device application, Journal of Non-Crystalline Solids, vol. 352, 2006, pp. 851-858.
• [4] Kawazoe H., Yasukawa M., Hyodo H., Kurita M., Yangi H., Hosono H.: P-type electrical conduction in transparent thin films of CuAlO2, Nature, vol. 389, 1997, pp, 939-942.
• [5] Ueda K., Hase T., Yanagi H., Kawazoe H., Hosono H., Ohta H., Orita M., Hirano M.: Epitaxial growth of transparent p-type conducting Cu-GaO2, thin films on sapphire (001) substrates by pulsed laser deposition. J. Appl. Phys. Vol. 89, 2001, pp. 1790-1793.
• [6] Kudo A., Yanagi H., Hosono H., Kawazoe H.: SrCu2O2 a p-type conductive oxide with wide band gap, Appl. Phys. Lett., vol. 73, 1998, s. 220-222.
• [7] Granqvist C. G., Hultaker A.: Transparent and conducting ITO film: new developments and applications. Thin Solid Films, vol. 411, 2002, pp. 1-5.
• [8] Domaradzki J., Prociów E. L., Kaczmarek D., Berlicki T., Podhorodecki A., Kudrawiec R., Misiewicz J.: Mater. Sci. Eng. B, vol. 109, 2004, p. 249.
• [9] Prociów E., Domaradzki J., Kaczmarek D., Berlicki T.: Sposób wytwarzania cienkich warstw TiO2 i target tytanowy, P 382163, 2007 r - zgłoszenie patentowe.
• [10] Okimura K., Low temperature growth of rutile TiO2 films in modified rf magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, vol. 135, 2001, pp. 286-290.
• [11] Diebold U., The surface science of titanium dioxide. Surface Science Reports, vol. 48, 2003, pp 53-229.
• [12] Kaczmarek D., Domaradzki J., Borkowska A., Podhorodecki A., Misiewicz J., Sieradzka K.: Optical emission from Eu, Tb, Md lummescence centers in TiO2 prepared by magnetron sputtering. Optica Applicata, vol. 37, 2007, pp. 433-138.
• [13] Domaradzki J., Borkowska A., Kaczmarek D., Prociów E.: Transparent oxide semiconductors based on TiO2 doped with V, Co and Pd elements. J. Non-Crystall Solids, vol. 352, nr 23-25, 2006, pp. 2324-2327.
• [14] Domaradzki J.: Structural, optical and electrical properties of transparent V and Pd-doped TiO2 thin films prepared by sputtering. Thin Solid Films. vol. 497, 2006, pp. 243-248.