Maskless laser lithography for fast Micro- and Mano-technology devices prototyping in ITE

• Autorzy: Sierakowski A. , Domański K. , Janus R. , Grabiec P. , Gotszalk T. , Kopiec D.

Warianty tytułu

PL

Metoda bezpośredniego naświetlania jako narzędzie przy szybkim opracowywaniu technologii wytwarzania mikro- i nanostruktur

• Konferencja: Electron Technology Conference ELTE 2010. 10 ; International Microelectronics and Packing IMAPS-CPMT. 34 ; 22-25.09.2010 ; Wrocław, Poland
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Istnieje kilka metod produkcji masek fotolitograficznych wykorzystywanych przy wytwarzaniu urządzeń półprzewodnikowych lub mikro- i nanomechamcznych. Pattern Generator, E-beam i bezpośrednie naświetlanie światłem laserowym to najczęściej wykorzystywane metody. Metoda bezpośredniego naświetlania wzoru na strukturze jest optymalną dla potrzeb szybkiego prototypowania. Pozwala ona na rezygnację z produkcji masek, które wykorzystywane są tylko w pojedynczych próbach. Możliwość naświetlania wzoru na dowolnym podłożu pokrytym światłoczułą emulsją znacznie skraca czas opracowywania technologii wytwarzania nowych przyrządów. Łatwa konwersja danych zapisanych w typowych formatach wykorzystywanych przy projektowaniu wzorów na kod maszynowy pozwala szybko wygenerować wzór.

EN

There are only a few methods of masks fabrications for semiconductor technology and MEMS devices. The most common are a Pattern Generator, an E-beam and the Maskless Laser Lithography technologies [1, 2]. For fast prototyping the most useful is the Maskless Laser Lithography method working in Direct Writing mode. For single trials mask making is not necessary. Exposing the pattern directly on a substrate (different substrates are possible) covered with a photosensitive layer makes prototyping much shorter. Moreover, using the direct writing method simplifies converting data from drafts to a pattern saved in machine code and then used for mask generation.

Słowa kluczowe

PL

fotolitografia; bezpośrednie generowanie wzoru; produkcja masek

EN

photolithography; direct writing; mask production

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2011
• Tom: Vol. 52, nr 3
• Strony: 38--40
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz.

Twórcy

autor

Sierakowski A.

autor

Domański K.

autor

Janus R.

autor

Grabiec P.

autor

Gotszalk T.

autor

Kopiec D.

• Instytut Technologii Elektronowej, Warszawa

Bibliografia

• [1] Laurent Pain, et al.: Direct write lithography: the global solution for R&D and manufacturing. C. R. Physique 7 (2006) 910-923.
• [2] Schomburg, C. et al.: Economic production of submicron ASICs with laser beam direct write lithography. Microelectronic Engineering Vol. 35, Issue: 1-4, February, 1997, pp. 509-512.
• [3] Manseung Seo et al.: Maskless Lithographic Pattern Generation System upon Micromirrors. Computer-Aided Design & Applications, Vol. 3, Nos. 1-4, 2006, pp 185-192.
• [4] Janus Paweł et al.: Novel SThM nanoprobe for thermal properties investigation of micro- and nanoelectronic devices. Microelectronic Engineering article in press.