Tlenki cyrkonu otrzymywane w procesie reaktywnego rozpylania magnetronowego

• Autorzy: Markowski J. , Żarnoch P.

Warianty tytułu

EN

Zirconium oxide thin films deposited by pulsed reactive magnetron sputtering

• Konferencja: Kongres Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; Krajowa Konferencja Techniki Próżni (4 ; 8 ; 21-24.09.2008 ; Janów Lubelski, Polska)
• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

Nanoszono cienkie warstwy tlenku cyrkonu na podłoża szklane metodą impulsowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Grubości osadzanych warstw zawierały się w granicach od 250 nm do 450 nm. Badano wpływ parametrów elektrycznych wyładowania magnetronowego oraz składu gazu roboczego (Ar+O2) na właściwości strukturalne i elektryczne nanoszonych warstw. Stwierdzono, że charakter otrzymywanych warstw (metaliczny, metaliczno-dielektryczny, dielektryczny) silnie zależy od relacji między mocą efektywną i mocą krążącą wyładowania oraz zawartością tlenu w gazie roboczym. Badania XRD wykazały, że w zależności od parametrów procesu technologicznego warstwy tlenków miały charakter amorficzny bądź zawierały kubiczną i jednoskośną fazę krystalograficzną. Zdjęcia mikroskopowe (AFM) powierzchni warstw tlenkowych otrzymywanych w różnych warunkach wskazują na wyraźne różnice w topografii warstw i parametrach ich chropowatości. Mniejszą chropowatość powierzchni wykazują warstwy o charakterze amorficznym.

EN

Zirconium oxide thin films were deposited by pulsed reactive magnetron sputtering on glass substrates. The thickness of the thin films was between 250 nm and 450 nm. The influence of magnetron electrical discharge parameters and sputtering gas pressure on electrical and structural properties of deposited thin films were investigated. Strong correlation between effective power, circulation power, and oxygen content in sputtering gas on character of obtained layers (metallic, metal-dielectric, dielectric) was establish. XRD measurements shown amorphous or monoclinic and cubic crystallographic structure of zirconium oxides depends on technological process parameters. AFM images from the surface of thin oxide films deposited in different conditions shown a clear distinction in topography and roughness parameters. Lower surface roughness in amorphous structures was observed.

Słowa kluczowe

PL

właściwości fizyczne; rozpylanie reaktywne; tlenek cyrkonu

EN

physical properties; reactive sputtering; zirconium oxide

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 1
• Strony: 115--117
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Markowski J.

autor

Żarnoch P.

• Politechnika Wrocławska, Wydział Elektroniki Mikrosystemów i Fotoniki

Bibliografia

• [1] Garvie R. C.: High Temperature Oxides. A. M. Alper 1970.
• [2] Subbarao E. C.: Science and Technology of Zirconia. Heuer & Hobs 1981.
• [3] Posadowski W. M., Wiatrowski A., Dora J., Radziński Z. J.: Magnetron sputtering process control by medium - frequency power supply parameter. Thin Solid Films, 516, 2008 pp. 4478-4482.
• [4] Wiatrowski A., Posadowski W. M., Dora J.: Impulsowe zasilanie układu magnetronowego - parametr technologiczny procesu rozpylania. Elektronika, nr 6, 2005, ss. 33-34.