Applicability of microwave plasma CVD and electrochemical process for deposition of diamond-related thin films

• Autorzy: Kulesza S. , Madaj D.

Warianty tytułu

PL

Wykorzystanie metod plazmy mikrofalowej oraz elektrochemicznej do osadzania cienkich warstw diamentopodobnych

• Konferencja: Kongres Polskiego Towarzystwa Próżniowego ; Krajowa Konferencja Techniki Próżni (4 ; 8 ; 21-24.09.2008 ; Janów Lubelski, Polska)
• Języki publikacji: EN

Abstrakty

EN

Microwave plasma CVD and electrochemical method have been described and analyzed in the paper taking into consideration their feasibility of growing diamond-based structures.

PL

W pracy przedstawiono wykorzystanie metody osadzania chemicznego z fazy gazowej (MP-CVD) oraz metody elektrochemicznej pod kątem odkładania struktur węglowych o dominującej hybrydyzacji tetraedrycznej (diamentopodobnych).

Słowa kluczowe

EN

diamond; chemical vapor deposition; electrochemical process

PL

diament; CVD; metoda elektrochemiczna

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 2009
• Tom: Vol. 50, nr 1
• Strony: 56--58
• Opis fizyczny: Bibliogr. 4 poz., wykr.

Twórcy

autor

Kulesza S.

autor

Madaj D.

• Uniwersytet Warmińsko-Mazurski, Wydział Matematyki i Informatyki, Olsztyn

Bibliografia

• [1] Sun Z., Sun Y., Wang X.: Chemical Physics Letters. 318 (2000) 471.
• [2] Ternyak O., Akhvlediani R., Hoffman A.: Diamond and Related Materials. 14 (2005) 323.
• [3] Yang W. B., Lu R. X., Cao Z. H.: Journal of Applied Physics. 91 (2002) 10068.
• [4] Vorlicek Y., Rosa J., Vanecek M., Nesladek M., Stals L. M.: Diamond and Related Materials. 6 (1997) 704.