Emisja polowa z materiałów układu węgiel - metal

• Autorzy: Czerwosz E.

Warianty tytułu

EN

Field emission from carbon - metal films

• Języki publikacji: PL

Abstrakty

PL

W artykule zostały przedstawione wyniki badań niektórych własności (struktury, składu, rezystancji oraz ich zmiany pod wpływem zachodzącej emisji elektronowej) warstw układu węgiel - metal M (M = Ni, Pd). Badanie wykonano metodami: transmisyjnej i skaningowej mikroskopii elektronowej, dyfrakcji elektronowej, spektrometrii dyspersji energii oraz spektrometrii ramanowskiej. Badania własności elektrycznych warstw i pomiary związane z emisją elektronową wykonywane były w specjalnie skonstruowanym układzie diody pomiarowej. Zmierzono charakterystyki prądowo-napięciowe warstw wykazujących emisję elektronową. Natężenie prądu tej emisji można było korelować ze strukturą warstw. Dla niektórych warstw otrzymano wysoką gęstość prądu emisji elektronowej, np. J - 1A/cm^{2 przy polu E = 5 V/um.}

EN

Tne results of the investigations of structure, composition and some electrical properties as well as electron emission experiment for carbon - metal M (where M = Ni, Pd) films are presented in this paper. The structural studies were performed with transmission and scanning electron microscopy, electron diffraction and Raman spectrometry. The composition of the films was obtained with energy dispersive spectrometry and chemical analysis. The electrical properties of these films and electron emission current were measured with specially constructed diode system. I-U characteristics were obtained for the films exhibiting electron emission. The intensityof electron current was correlated with the structure of films. High density of electron current was obtained for Iow threshold fields for some films. It was observed J - 1A/cm^{2 for field value E = 5 V/um.}

Słowa kluczowe

PL

emisja polowa; badania; wyniki badań; zastosowanie

EN

field emission; research; results of research; employment

• Wydawca: Wydawnictwo SIGMA-NOT
• Czasopismo: Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
• Rocznik: 1999
• Tom: Vol. 40, nr 11
• Strony: 20--24
• Opis fizyczny: Bibliogr. 12 poz., wykr.

Twórcy

autor

Czerwosz E.

• Instytut Fizyki Doświadczalnej, Uniwersytet Warszawski, Warszawa